微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2007年
6期
295-298,311
,共5页
于英霞%李惠军%侯志刚%张宪敏
于英霞%李惠軍%侯誌剛%張憲敏
우영하%리혜군%후지강%장헌민
集成电路%纳米层次%工艺仿真%可制造性设计
集成電路%納米層次%工藝倣真%可製造性設計
집성전로%납미층차%공예방진%가제조성설계
基于Synopsys Inc.最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具--SenTaurus Process,实现了CMOS 架构的nm级NMOS制程的工艺级可制造性设计.仿真结果体现了SenTaurus Process的强大功能和使用SenTaurus Process进行工艺级可制造性设计的必要性.
基于Synopsys Inc.最新推齣的新一代nm級IC製程工藝設計工具--SenTaurus Process,實現瞭CMOS 架構的nm級NMOS製程的工藝級可製造性設計.倣真結果體現瞭SenTaurus Process的彊大功能和使用SenTaurus Process進行工藝級可製造性設計的必要性.
기우Synopsys Inc.최신추출적신일대nm급IC제정공예설계공구--SenTaurus Process,실현료CMOS 가구적nm급NMOS제정적공예급가제조성설계.방진결과체현료SenTaurus Process적강대공능화사용SenTaurus Process진행공예급가제조성설계적필요성.
