红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2008年
2期
312-315
,共4页
任栖锋%沈忙作%廖胜%谭述亮%韩维强
任棲鋒%瀋忙作%廖勝%譚述亮%韓維彊
임서봉%침망작%료성%담술량%한유강
低温光学系统%两级温区%热分析%制冷%温控
低溫光學繫統%兩級溫區%熱分析%製冷%溫控
저온광학계통%량급온구%열분석%제랭%온공
在低温光学系统内建立两级温区是红外弱目标双波段探测的基础和关键,采用氦气压缩式制冷技术,通过精密的结构、热、光学设计和分析,实现了低温光学系统内两个低温温区的隔离与建立,一级温区80～100 K,二级温区40～80 K,控温精度±0.5 K,温区内最大温差2.4 K,两温区独立控温、互不干扰,克服了国内低温光学研究受液氮制冷对温度和使用条件的限制,使国内低温光学的研究达到了具有更低工作温度和双温区同时工作的水平.
在低溫光學繫統內建立兩級溫區是紅外弱目標雙波段探測的基礎和關鍵,採用氦氣壓縮式製冷技術,通過精密的結構、熱、光學設計和分析,實現瞭低溫光學繫統內兩箇低溫溫區的隔離與建立,一級溫區80～100 K,二級溫區40～80 K,控溫精度±0.5 K,溫區內最大溫差2.4 K,兩溫區獨立控溫、互不榦擾,剋服瞭國內低溫光學研究受液氮製冷對溫度和使用條件的限製,使國內低溫光學的研究達到瞭具有更低工作溫度和雙溫區同時工作的水平.
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