化学反应工程与工艺
化學反應工程與工藝
화학반응공정여공예
CHEMICAL REACTION ENGINEERING AND TECHNOLOGY
2011年
2期
166-174
,共9页
合金%低氧分压%氧化膜%结焦
閤金%低氧分壓%氧化膜%結焦
합금%저양분압%양화막%결초
在低氧分压气氛下氧化HP40合金,在合金表面形成具有抑制催化结焦能力的氧化膜,并采用X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱（XPS）和扫描电子显微镜（SEM)分析氧化膜的元素成分、物相绌构、表面和截面形貌,用热重天平分析氧化膜的增重规律,用结焦实验评价氧化膜的抗结焦性能.结果表明:经低氧分压处理后,在金属表面形成的氧化膜由表及里分为3层,分别为MnCr2O4尖晶石层、Cr2O3层和SiO2层,氧化膜的厚度约为2 μm,氧化温度为900℃时氧化膜的结焦抑制率可达到90％,氧化膜可有效抑制丝状催化焦炭的产生.
在低氧分壓氣氛下氧化HP40閤金,在閤金錶麵形成具有抑製催化結焦能力的氧化膜,併採用X射線能量色散譜(EDS)、X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜（XPS）和掃描電子顯微鏡（SEM)分析氧化膜的元素成分、物相絀構、錶麵和截麵形貌,用熱重天平分析氧化膜的增重規律,用結焦實驗評價氧化膜的抗結焦性能.結果錶明:經低氧分壓處理後,在金屬錶麵形成的氧化膜由錶及裏分為3層,分彆為MnCr2O4尖晶石層、Cr2O3層和SiO2層,氧化膜的厚度約為2 μm,氧化溫度為900℃時氧化膜的結焦抑製率可達到90％,氧化膜可有效抑製絲狀催化焦炭的產生.
재저양분압기분하양화HP40합금,재합금표면형성구유억제최화결초능력적양화막,병채용X사선능량색산보(EDS)、X사선연사(XRD)、X사선광전자능보（XPS）화소묘전자현미경（SEM)분석양화막적원소성분、물상출구、표면화절면형모,용열중천평분석양화막적증중규률,용결초실험평개양화막적항결초성능.결과표명:경저양분압처리후,재금속표면형성적양화막유표급리분위3층,분별위MnCr2O4첨정석층、Cr2O3층화SiO2층,양화막적후도약위2 μm,양화온도위900℃시양화막적결초억제솔가체도90％,양화막가유효억제사상최화초탄적산생.
