桂林电子科技大学学报
桂林電子科技大學學報
계림전자과기대학학보
JOURNAL OF GUILIN UNIVERSITY OF ELECTRONIC TECHNOLOGY
2011年
5期
422-425
,共4页
Pt/Pd%焙烧温度%催化活性%小型通用汽油机
Pt/Pd%焙燒溫度%催化活性%小型通用汽油機
Pt/Pd%배소온도%최화활성%소형통용기유궤
为了探讨焙烧温度对催化剂性能的影响,通过对不同焙烧温度的Pt/Pd负载型催化剂进行XRD涂层结构分析及催化剂活性评价检测.XRD分析结果表明,随着焙烧温度的升高,催化涂层中铈锆固溶体的特征峰趋于完整,经950℃焙烧后,催化剂涂层中γ-Al2 O3相的衍射峰仍十分明显,说明镧、铈、锫等添加剂对γ型氧化铝起到了很好的结构稳定作用.催化剂活性测试结果表明,焙烧温度对催化剂活性有较大影响,焙烧温度在700～750℃时,催化剂具有最好且最为稳定的同时转化CO、HC和NOx尾气的三效性能.
為瞭探討焙燒溫度對催化劑性能的影響,通過對不同焙燒溫度的Pt/Pd負載型催化劑進行XRD塗層結構分析及催化劑活性評價檢測.XRD分析結果錶明,隨著焙燒溫度的升高,催化塗層中鈰鋯固溶體的特徵峰趨于完整,經950℃焙燒後,催化劑塗層中γ-Al2 O3相的衍射峰仍十分明顯,說明鑭、鈰、锫等添加劑對γ型氧化鋁起到瞭很好的結構穩定作用.催化劑活性測試結果錶明,焙燒溫度對催化劑活性有較大影響,焙燒溫度在700～750℃時,催化劑具有最好且最為穩定的同時轉化CO、HC和NOx尾氣的三效性能.
위료탐토배소온도대최화제성능적영향,통과대불동배소온도적Pt/Pd부재형최화제진행XRD도층결구분석급최화제활성평개검측.XRD분석결과표명,수착배소온도적승고,최화도층중시고고용체적특정봉추우완정,경950℃배소후,최화제도층중γ-Al2 O3상적연사봉잉십분명현,설명란、시、부등첨가제대γ형양화려기도료흔호적결구은정작용.최화제활성측시결과표명,배소온도대최화제활성유교대영향,배소온도재700～750℃시,최화제구유최호차최위은정적동시전화CO、HC화NOx미기적삼효성능.
