真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2009年
1期
31-34
,共4页
反应溅射%动态模拟%AlN薄膜
反應濺射%動態模擬%AlN薄膜
반응천사%동태모의%AlN박막
反应磁控溅射方法制备AlN薄膜是一种很普遍的方法,但采用该方法制备时,各个参数相互作用使过程复杂化.为了增强对该过程的理解,建立了反应溅射过程的动态模型.应用该模型分析了当氮流量增加或减少时,过程中的各个参数随时间变化的瞬态行为.计算出的溅射参数与实测值相符.模型清楚地表明,过程的初始状态对其动态行为有显著的影响.
反應磁控濺射方法製備AlN薄膜是一種很普遍的方法,但採用該方法製備時,各箇參數相互作用使過程複雜化.為瞭增彊對該過程的理解,建立瞭反應濺射過程的動態模型.應用該模型分析瞭噹氮流量增加或減少時,過程中的各箇參數隨時間變化的瞬態行為.計算齣的濺射參數與實測值相符.模型清楚地錶明,過程的初始狀態對其動態行為有顯著的影響.
반응자공천사방법제비AlN박막시일충흔보편적방법,단채용해방법제비시,각개삼수상호작용사과정복잡화.위료증강대해과정적리해,건립료반응천사과정적동태모형.응용해모형분석료당담류량증가혹감소시,과정중적각개삼수수시간변화적순태행위.계산출적천사삼수여실측치상부.모형청초지표명,과정적초시상태대기동태행위유현저적영향.
