衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响
츤저온도대사빈자공천사제비ZnO박막결구적영향
Effect of substrate temperature on the structure of ZnO films prepared by RF magnetron sputtering
  • 万方数据
    天津理工大学学报 천진리공대학학보
    JOURNAL OF TIANJIN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
    2008年 4期 5-7 ,共3页

    付长凤%陈希明%韩连福

    부장봉%진희명%한련복

    ZnO薄膜%射频磁控溅射%衬底温度 ZnO薄膜%射頻磁控濺射%襯底溫度
    ZnO박막%사빈자공천사%츤저온도
    采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同衬底温度下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析.结果表明,在衬底温度为400℃时制备的ZnO薄膜表面光滑,晶粒尺寸均匀,结构致密,且沿c轴择优生长.
    채용사빈자공천사법재파리츤저상제비ZnO박막.용X사선연사의(XRD)、소묘전경(SEM)대불동츤저온도하제비박막적상결구화표면형모진행분석.결과표명,재츤저온도위400℃시제비적ZnO박막표면광활,정립척촌균균,결구치밀,차연c축택우생장.
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