西安理工大学学报
西安理工大學學報
서안리공대학학보
JOURNAL OF XI'AN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2008年
1期
8-12
,共5页
严少平%蒋百灵%苏阳%张永宏
嚴少平%蔣百靈%囌暘%張永宏
엄소평%장백령%소양%장영굉
非平衡磁控溅射%类石墨碳镀层%微结构%Raman光谱%X射线光电子能谱
非平衡磁控濺射%類石墨碳鍍層%微結構%Raman光譜%X射線光電子能譜
비평형자공천사%류석묵탄도층%미결구%Raman광보%X사선광전자능보
利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱和X 射线光电子能谱 (XPS)等分析方法对镀层的微观结构进行了研究.结果表明:不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似,类石墨碳镀层是以sp2键结构为主,且含有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层,sp3键含量在12～15%范围;根据高斯解谱计算,镀层中碳团簇线度为1.2 nm以下,并随铬含量增高而减小;镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成,并随铬含量增高,逐步有碳铬化合物形成.
利用非平衡磁控濺射離子鍍技術在單晶硅片上沉積瞭類石墨碳鍍層,採用X射線衍射(XRD)、激光Raman光譜和X 射線光電子能譜 (XPS)等分析方法對鍍層的微觀結構進行瞭研究.結果錶明:不同成份類石墨碳鍍層的Raman光譜與寬化的多晶石墨Raman光譜相似,類石墨碳鍍層是以sp2鍵結構為主,且含有多種納米糰簇顆粒的非晶鍍層,sp3鍵含量在12～15%範圍;根據高斯解譜計算,鍍層中碳糰簇線度為1.2 nm以下,併隨鉻含量增高而減小;鍍層主要由單質碳、鉻及其鉻氧化物組成,併隨鉻含量增高,逐步有碳鉻化閤物形成.
이용비평형자공천사리자도기술재단정규편상침적료류석묵탄도층,채용X사선연사(XRD)、격광Raman광보화X 사선광전자능보 (XPS)등분석방법대도층적미관결구진행료연구.결과표명:불동성빈류석묵탄도층적Raman광보여관화적다정석묵Raman광보상사,류석묵탄도층시이sp2건결구위주,차함유다충납미단족과립적비정도층,sp3건함량재12～15%범위;근거고사해보계산,도층중탄단족선도위1.2 nm이하,병수락함량증고이감소;도층주요유단질탄、락급기락양화물조성,병수락함량증고,축보유탄락화합물형성.
