微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2007年
4期
478-481
,共4页
栅压%LDMOS%功率密度
柵壓%LDMOS%功率密度
책압%LDMOS%공솔밀도
研究 LDMOS在一次雪崩击穿后的大电流区,栅压对器件内部温度的影响.结果表明,有源区电流密度、功率密度和温度都随正栅压升高而增加,证明LDMOS在栅接地时比栅不接地时具有更好的静电放电能力.
研究 LDMOS在一次雪崩擊穿後的大電流區,柵壓對器件內部溫度的影響.結果錶明,有源區電流密度、功率密度和溫度都隨正柵壓升高而增加,證明LDMOS在柵接地時比柵不接地時具有更好的靜電放電能力.
연구 LDMOS재일차설붕격천후적대전류구,책압대기건내부온도적영향.결과표명,유원구전류밀도、공솔밀도화온도도수정책압승고이증가,증명LDMOS재책접지시비책불접지시구유경호적정전방전능력.