功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2007年
7期
1210-1212,1216
,共4页
蓝碧健%吕银祥%蔡永挚%邹振光%徐伟
藍碧健%呂銀祥%蔡永摯%鄒振光%徐偉
람벽건%려은상%채영지%추진광%서위
单分子膜%分子自组装%不对称%整流%MBIS
單分子膜%分子自組裝%不對稱%整流%MBIS
단분자막%분자자조장%불대칭%정류%MBIS
以分子自组装的方法在金电极表面制备了"2-巯基-5-磺酸基苯并咪唑(MBIS)"的单层有机分子膜,并用掠角反射红外光谱(RAIRS)对其进行了表征. 覆盖有MBIS单分子层的金膜表面具有明显的亲水性,其接触角为31.3°,而纯金膜表面的接触角为106.6°.用扫描隧道显微镜(STM)测试了MBIS单分子膜的整流性质,测得在偏压±1V时的整流比为20.6.末端含有磺酸基的MBIS单分子层膜能够忍受真空热蒸发方法蒸镀金属顶电极的冲击,因此容易用通常的热蒸镀方法制备夹层器件."金/MBIS单层分子膜/银"器件首次测得的整流比为11.8(±2V),随后20次连续测量显示整流比为6.62～8.95(±2V)."金/MBIS单层分子膜/铜"器件的整流比约为4(±1V),整流器件之间有良好的稳定性及重现性.
以分子自組裝的方法在金電極錶麵製備瞭"2-巰基-5-磺痠基苯併咪唑(MBIS)"的單層有機分子膜,併用掠角反射紅外光譜(RAIRS)對其進行瞭錶徵. 覆蓋有MBIS單分子層的金膜錶麵具有明顯的親水性,其接觸角為31.3°,而純金膜錶麵的接觸角為106.6°.用掃描隧道顯微鏡(STM)測試瞭MBIS單分子膜的整流性質,測得在偏壓±1V時的整流比為20.6.末耑含有磺痠基的MBIS單分子層膜能夠忍受真空熱蒸髮方法蒸鍍金屬頂電極的遲擊,因此容易用通常的熱蒸鍍方法製備夾層器件."金/MBIS單層分子膜/銀"器件首次測得的整流比為11.8(±2V),隨後20次連續測量顯示整流比為6.62～8.95(±2V)."金/MBIS單層分子膜/銅"器件的整流比約為4(±1V),整流器件之間有良好的穩定性及重現性.
이분자자조장적방법재금전겁표면제비료"2-구기-5-광산기분병미서(MBIS)"적단층유궤분자막,병용략각반사홍외광보(RAIRS)대기진행료표정. 복개유MBIS단분자층적금막표면구유명현적친수성,기접촉각위31.3°,이순금막표면적접촉각위106.6°.용소묘수도현미경(STM)측시료MBIS단분자막적정류성질,측득재편압±1V시적정류비위20.6.말단함유광산기적MBIS단분자층막능구인수진공열증발방법증도금속정전겁적충격,인차용역용통상적열증도방법제비협층기건."금/MBIS단층분자막/은"기건수차측득적정류비위11.8(±2V),수후20차련속측량현시정류비위6.62～8.95(±2V)."금/MBIS단층분자막/동"기건적정류비약위4(±1V),정류기건지간유량호적은정성급중현성.
