压电与声光
壓電與聲光
압전여성광
PIEZOELECTRICS & ACOUSTOOPTICS
2006年
1期
82-84
,共3页
孙明霞%钟朝位%张树人%张万里%陈祝%郑泽渔
孫明霞%鐘朝位%張樹人%張萬裏%陳祝%鄭澤漁
손명하%종조위%장수인%장만리%진축%정택어
射频磁控溅射%循环间歇溅射%镧钛酸铅薄膜%铁电性能
射頻磁控濺射%循環間歇濺射%鑭鈦痠鉛薄膜%鐵電性能
사빈자공천사%순배간헐천사%란태산연박막%철전성능
采用射频磁控溅射技术利用循环间歇溅射工艺,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备出了镧钛酸铅(PLT)薄膜.通过原子力显微镜、X-射线衍射仪分析了循环间歇溅射工艺对薄膜形貌、结构和铁电性能的影响.实验结果表明,相比于连续溅射工艺,循环间歇溅射工艺的基片温度较低,且制得的PLT薄膜晶粒细小、均匀,结构致密.薄膜具有纯钙钛矿型结构,循环次数从1次增加到3次,其(100)和(200)峰衍射强度逐渐增强,结晶性提高,铁电性能逐渐增强,其饱和极化强度由28μC/cm2增大到53μC/cm2,剩余极化强度由5μC/cm2增大到12μC/cm2.循环4次溅射后,薄膜的结晶性和铁电性开始下降.
採用射頻磁控濺射技術利用循環間歇濺射工藝,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上製備齣瞭鑭鈦痠鉛(PLT)薄膜.通過原子力顯微鏡、X-射線衍射儀分析瞭循環間歇濺射工藝對薄膜形貌、結構和鐵電性能的影響.實驗結果錶明,相比于連續濺射工藝,循環間歇濺射工藝的基片溫度較低,且製得的PLT薄膜晶粒細小、均勻,結構緻密.薄膜具有純鈣鈦礦型結構,循環次數從1次增加到3次,其(100)和(200)峰衍射彊度逐漸增彊,結晶性提高,鐵電性能逐漸增彊,其飽和極化彊度由28μC/cm2增大到53μC/cm2,剩餘極化彊度由5μC/cm2增大到12μC/cm2.循環4次濺射後,薄膜的結晶性和鐵電性開始下降.
채용사빈자공천사기술이용순배간헐천사공예,재Pt/Ti/SiO2/Si기편상제비출료란태산연(PLT)박막.통과원자력현미경、X-사선연사의분석료순배간헐천사공예대박막형모、결구화철전성능적영향.실험결과표명,상비우련속천사공예,순배간헐천사공예적기편온도교저,차제득적PLT박막정립세소、균균,결구치밀.박막구유순개태광형결구,순배차수종1차증가도3차,기(100)화(200)봉연사강도축점증강,결정성제고,철전성능축점증강,기포화겁화강도유28μC/cm2증대도53μC/cm2,잉여겁화강도유5μC/cm2증대도12μC/cm2.순배4차천사후,박막적결정성화철전성개시하강.
