电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2002年
1期
39-42
,共4页
ZnO薄膜%原子力显微镜(AFM)%电子束反应蒸镀
ZnO薄膜%原子力顯微鏡(AFM)%電子束反應蒸鍍
ZnO박막%원자력현미경(AFM)%전자속반응증도
对采用电子束反应蒸镀方法在低温下在硅(001)衬底上外延生长的ZnO薄膜的表面构像进行了原子力显微镜(AFM)观察,分析研究不同的衬底温度对薄膜表面形貌及结构特性的影响.在250℃衬底温度下获得的ZnO薄膜,膜表面平整,结构致密,表面平均不平整度小于3nm,说明在该衬底温度下获得的ZnO薄膜是高透明度、高质量、高度取向的单晶薄膜.
對採用電子束反應蒸鍍方法在低溫下在硅(001)襯底上外延生長的ZnO薄膜的錶麵構像進行瞭原子力顯微鏡(AFM)觀察,分析研究不同的襯底溫度對薄膜錶麵形貌及結構特性的影響.在250℃襯底溫度下穫得的ZnO薄膜,膜錶麵平整,結構緻密,錶麵平均不平整度小于3nm,說明在該襯底溫度下穫得的ZnO薄膜是高透明度、高質量、高度取嚮的單晶薄膜.
대채용전자속반응증도방법재저온하재규(001)츤저상외연생장적ZnO박막적표면구상진행료원자력현미경(AFM)관찰,분석연구불동적츤저온도대박막표면형모급결구특성적영향.재250℃츤저온도하획득적ZnO박막,막표면평정,결구치밀,표면평균불평정도소우3nm,설명재해츤저온도하획득적ZnO박막시고투명도、고질량、고도취향적단정박막.
