金刚石与磨料磨具工程
金剛石與磨料磨具工程
금강석여마료마구공정
DIAMOND & ABRASIVES ENGINNERING
2008年
6期
1-4,8
,共5页
满卫东%孙蕾%吴宇琼%谢鹏%余学超%汪建华
滿衛東%孫蕾%吳宇瓊%謝鵬%餘學超%汪建華
만위동%손뢰%오우경%사붕%여학초%왕건화
金刚石膜%刻蚀%等离子体%图形化加工
金剛石膜%刻蝕%等離子體%圖形化加工
금강석막%각식%등리자체%도형화가공
金刚石膜是一种具有巨大应用潜力的新型功能材料,但是它极高的硬度和化学稳定性使其难以被加工成型,因此如何对金刚石膜表面进行精确的图形化加工是实现制造金刚石器件的关键技术问题之一.在本研究中,我们用微波等离子体化学气相沉积法制备的金刚石厚膜,在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀、铁薄膜的催石墨化作用下,对金刚石膜的形核面进行了选择性的刻蚀.结果表明,该方法具有较高的刻蚀速率(850 ℃,33.8 μm/h),较高的刻蚀选择比,可以对CVD金刚石膜进行较精确的图形化刻蚀,还可通过调节铁薄膜的厚度来实现刻蚀深度的控制.对氢等离子体在整个过程中的作用进行了阐述.
金剛石膜是一種具有巨大應用潛力的新型功能材料,但是它極高的硬度和化學穩定性使其難以被加工成型,因此如何對金剛石膜錶麵進行精確的圖形化加工是實現製造金剛石器件的關鍵技術問題之一.在本研究中,我們用微波等離子體化學氣相沉積法製備的金剛石厚膜,在其錶麵利用氫等離子體輔助刻蝕、鐵薄膜的催石墨化作用下,對金剛石膜的形覈麵進行瞭選擇性的刻蝕.結果錶明,該方法具有較高的刻蝕速率(850 ℃,33.8 μm/h),較高的刻蝕選擇比,可以對CVD金剛石膜進行較精確的圖形化刻蝕,還可通過調節鐵薄膜的厚度來實現刻蝕深度的控製.對氫等離子體在整箇過程中的作用進行瞭闡述.
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