华南理工大学学报(自然科学版)
華南理工大學學報(自然科學版)
화남리공대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOLGY
2004年
8期
13-17
,共5页
陈平%黄美浅%李斌%李观启
陳平%黃美淺%李斌%李觀啟
진평%황미천%리빈%리관계
Ba1-χsrχTiO3薄膜%电荷存储特性%MIOs结构%退火%氧空位%陷阱
Ba1-χsrχTiO3薄膜%電荷存儲特性%MIOs結構%退火%氧空位%陷阱
Ba1-χsrχTiO3박막%전하존저특성%MIOs결구%퇴화%양공위%함정
采用氩离子束镀膜技术和硅平面工艺,在经过干氧氧化的硅衬底上制备一层钛酸锶钡(Ba1-χsrχTiO3)薄膜,再在氧气氛中进行不同条件的退火处理,然后蒸铝并利用光刻技术制作铝电极,从而形成金属-绝缘体-氧化物-半导体(MIOS)双介质电容器结构.通过该薄膜电容器的充放电实验,研究薄膜的电荷存储特性.结果表明,该薄膜在不超过800℃下退火,其电荷存储能力主要与氧组分有关;氧空位越多,电荷存储能力越强.
採用氬離子束鍍膜技術和硅平麵工藝,在經過榦氧氧化的硅襯底上製備一層鈦痠鍶鋇(Ba1-χsrχTiO3)薄膜,再在氧氣氛中進行不同條件的退火處理,然後蒸鋁併利用光刻技術製作鋁電極,從而形成金屬-絕緣體-氧化物-半導體(MIOS)雙介質電容器結構.通過該薄膜電容器的充放電實驗,研究薄膜的電荷存儲特性.結果錶明,該薄膜在不超過800℃下退火,其電荷存儲能力主要與氧組分有關;氧空位越多,電荷存儲能力越彊.
채용아리자속도막기술화규평면공예,재경과간양양화적규츤저상제비일층태산송패(Ba1-χsrχTiO3)박막,재재양기분중진행불동조건적퇴화처리,연후증려병이용광각기술제작려전겁,종이형성금속-절연체-양화물-반도체(MIOS)쌍개질전용기결구.통과해박막전용기적충방전실험,연구박막적전하존저특성.결과표명,해박막재불초과800℃하퇴화,기전하존저능력주요여양조분유관;양공위월다,전하존저능력월강.
