中国光学与应用光学
中國光學與應用光學
중국광학여응용광학
CHINESE JOURNAL OF OPTICS AND APPLIED OPTICS
2010年
6期
630-636
,共7页
薄膜光学%电子束蒸发%离子束溅射%高反射镜%X射线衍射术%X射线光电子能谱
薄膜光學%電子束蒸髮%離子束濺射%高反射鏡%X射線衍射術%X射線光電子能譜
박막광학%전자속증발%리자속천사%고반사경%X사선연사술%X사선광전자능보
HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求.本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较.通过对单层HfO2薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演,得到了HfO2薄膜在230～800 nm波段的折射率和消光系数色散曲线,结果表明两种方法制备的HfO2薄膜在250 nm的消光系数均小于2×10-3.在此基础上,制备了两种典型的紫外光学薄膜元件(紫外低通滤波器和240 nm高反射镜),其光谱性能测试结果表明,两种不同方法制备的器件均具有较好的光学特性.
HfO2薄膜在紫外光學中具有十分重要的地位,不同方法製備的HfO2薄膜特性不同,可以滿足不同的實際應用需求.本文分彆利用電子束蒸髮和離子束濺射方法製備瞭用于紫外光區域的HfO2薄膜,併對薄膜的材料和光學特性進行瞭錶徵與比較.通過對單層HfO2薄膜的實測透射和反射光譜進行數值反縯,得到瞭HfO2薄膜在230～800 nm波段的摺射率和消光繫數色散麯線,結果錶明兩種方法製備的HfO2薄膜在250 nm的消光繫數均小于2×10-3.在此基礎上,製備瞭兩種典型的紫外光學薄膜元件(紫外低通濾波器和240 nm高反射鏡),其光譜性能測試結果錶明,兩種不同方法製備的器件均具有較好的光學特性.
HfO2박막재자외광학중구유십분중요적지위,불동방법제비적HfO2박막특성불동,가이만족불동적실제응용수구.본문분별이용전자속증발화리자속천사방법제비료용우자외광구역적HfO2박막,병대박막적재료화광학특성진행료표정여비교.통과대단층HfO2박막적실측투사화반사광보진행수치반연,득도료HfO2박막재230～800 nm파단적절사솔화소광계수색산곡선,결과표명량충방법제비적HfO2박막재250 nm적소광계수균소우2×10-3.재차기출상,제비료량충전형적자외광학박막원건(자외저통려파기화240 nm고반사경),기광보성능측시결과표명,량충불동방법제비적기건균구유교호적광학특성.
