光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2004年
1期
24-28
,共5页
娄丽芳%盛钟延%姚奎鸿%肖丙刚%何赛灵
婁麗芳%盛鐘延%姚奎鴻%肖丙剛%何賽靈
루려방%성종연%요규홍%초병강%하새령
导波与光纤光学%平面光波导%等离子体增强化学气相沉积%二氧化硅薄膜
導波與光纖光學%平麵光波導%等離子體增彊化學氣相沉積%二氧化硅薄膜
도파여광섬광학%평면광파도%등리자체증강화학기상침적%이양화규박막
以硅烷和氧化二氮作为反应气体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,不使用掺杂,在单晶硅衬底上制备了用于平面光波导的二氧化硅薄膜.研究了薄膜折射率和淀积速率与工艺参量之间的关系,通过棱镜耦合仪、傅里叶变换红外光谱、原子力显微镜等测试手段,分析了薄膜的结构和光学特性.结果表明,实验能快速生长厚二氧化硅薄膜,薄膜表面平整,颗粒度均匀,同时薄膜具有折射率精确可控和红外透射性能好的特点,非常适合制作光波导器件.
以硅烷和氧化二氮作為反應氣體,採用等離子體增彊化學氣相沉積(PECVD)技術,不使用摻雜,在單晶硅襯底上製備瞭用于平麵光波導的二氧化硅薄膜.研究瞭薄膜摺射率和澱積速率與工藝參量之間的關繫,通過稜鏡耦閤儀、傅裏葉變換紅外光譜、原子力顯微鏡等測試手段,分析瞭薄膜的結構和光學特性.結果錶明,實驗能快速生長厚二氧化硅薄膜,薄膜錶麵平整,顆粒度均勻,同時薄膜具有摺射率精確可控和紅外透射性能好的特點,非常適閤製作光波導器件.
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