光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2009年
2期
29-33
,共5页
薄膜%厚度%光学常数%椭偏测量
薄膜%厚度%光學常數%橢偏測量
박막%후도%광학상수%타편측량
研究了椭偏测量中多层薄膜拟和模型建立的过程,并对一未知多层光学薄膜进行了椭偏分析,建立了substrate/film1/EMA/film2/srough的物理结构模型.采用椭偏法,在首先确定出基底光学常数的基础上,提出了从单层、双层、三层逐次建模拟和的分析方法.研究结果表明:对于透明或弱吸收光学薄膜,采用柯西公式可以较好表征材料的色散关系.椭偏分析最终得到的未知薄膜基本结构为G(1.52)/2.0312(203.0 nm)1.4636(170.1 nm)2.079 1(170.4 nm)/A,膜系设计及分光光度计测量的透射光谱证实了这一结果.对多层膜厚度和光学常数的分析表明,椭偏法仍然是一种行之有效的薄膜光学常数测量方法.
研究瞭橢偏測量中多層薄膜擬和模型建立的過程,併對一未知多層光學薄膜進行瞭橢偏分析,建立瞭substrate/film1/EMA/film2/srough的物理結構模型.採用橢偏法,在首先確定齣基底光學常數的基礎上,提齣瞭從單層、雙層、三層逐次建模擬和的分析方法.研究結果錶明:對于透明或弱吸收光學薄膜,採用柯西公式可以較好錶徵材料的色散關繫.橢偏分析最終得到的未知薄膜基本結構為G(1.52)/2.0312(203.0 nm)1.4636(170.1 nm)2.079 1(170.4 nm)/A,膜繫設計及分光光度計測量的透射光譜證實瞭這一結果.對多層膜厚度和光學常數的分析錶明,橢偏法仍然是一種行之有效的薄膜光學常數測量方法.
연구료타편측량중다층박막의화모형건립적과정,병대일미지다층광학박막진행료타편분석,건립료substrate/film1/EMA/film2/srough적물리결구모형.채용타편법,재수선학정출기저광학상수적기출상,제출료종단층、쌍층、삼층축차건모의화적분석방법.연구결과표명:대우투명혹약흡수광학박막,채용가서공식가이교호표정재료적색산관계.타편분석최종득도적미지박막기본결구위G(1.52)/2.0312(203.0 nm)1.4636(170.1 nm)2.079 1(170.4 nm)/A,막계설계급분광광도계측량적투사광보증실료저일결과.대다층막후도화광학상수적분석표명,타편법잉연시일충행지유효적박막광학상수측량방법.
