光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2010年
3期
86-90
,共5页
吴先权%华文深%谢大兵%赵莉君
吳先權%華文深%謝大兵%趙莉君
오선권%화문심%사대병%조리군
光学薄膜%透过率%色散模型%遗传算法
光學薄膜%透過率%色散模型%遺傳算法
광학박막%투과솔%색산모형%유전산법
准确的测量薄膜的厚度和光学常数,在薄膜的制备、研究和应用中都十分重要.借助Cauchy色散模型和P阶评函数,通过薄膜透过率测量曲线,用改进的遗传算法对透过率曲线进行全光谱拟合,从而反演得到薄膜的厚度和光学常数.理论验证是对电子束蒸发制备的TiO2和反应磁控溅射制备的Si3N4薄膜进行测试拟合,计算得到的结果与文献报道的一致,误差小于0.5%.
準確的測量薄膜的厚度和光學常數,在薄膜的製備、研究和應用中都十分重要.藉助Cauchy色散模型和P階評函數,通過薄膜透過率測量麯線,用改進的遺傳算法對透過率麯線進行全光譜擬閤,從而反縯得到薄膜的厚度和光學常數.理論驗證是對電子束蒸髮製備的TiO2和反應磁控濺射製備的Si3N4薄膜進行測試擬閤,計算得到的結果與文獻報道的一緻,誤差小于0.5%.
준학적측량박막적후도화광학상수,재박막적제비、연구화응용중도십분중요.차조Cauchy색산모형화P계평함수,통과박막투과솔측량곡선,용개진적유전산법대투과솔곡선진행전광보의합,종이반연득도박막적후도화광학상수.이론험증시대전자속증발제비적TiO2화반응자공천사제비적Si3N4박막진행측시의합,계산득도적결과여문헌보도적일치,오차소우0.5%.
