真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2004年
4期
309-312
,共4页
辛煜%宁兆元%叶超%许圣华%甘肇强%黄松%陈军%狄小莲
辛煜%寧兆元%葉超%許聖華%甘肇彊%黃鬆%陳軍%狄小蓮
신욱%저조원%협초%허골화%감조강%황송%진군%적소련
感应耦合等离子体%刻蚀选择性%HfO2%光刻胶%衍射光栅
感應耦閤等離子體%刻蝕選擇性%HfO2%光刻膠%衍射光柵
감응우합등리자체%각식선택성%HfO2%광각효%연사광책
通过改变偏压功率和气体气压的宏观条件,利用CHF3,Ar和H2的感应耦合等离子体(ICP)对HfO2和RZJ-306光刻胶进行了刻蚀选择性实验研究.结果表明,HfO2与等离子体化学相互作用的刻蚀产物属于非挥发性的,容易造成边墙的堆积而形成"驼峰"形,因而需要借助于Ar+的辅助轰击来消除边墙堆积,典型的HfO2/光刻胶的刻蚀选择比在0.2～0.5之间.在射频源功率400 W、气压0.5 Pa、射频偏压-400 V、流量比为Ar∶CHF3∶H2=40 sccm∶18 sccm∶2 sccm的优化条件下,利用感应耦合等离子体刻蚀特性,对光刻胶作为掩膜的HfO2/BK7玻璃进行刻蚀,扫描电镜的测试结果表明,光栅的图形转移效果较好.红外激光波长为1064 nm时,所测得的光栅二级衍射效率在71%以上.
通過改變偏壓功率和氣體氣壓的宏觀條件,利用CHF3,Ar和H2的感應耦閤等離子體(ICP)對HfO2和RZJ-306光刻膠進行瞭刻蝕選擇性實驗研究.結果錶明,HfO2與等離子體化學相互作用的刻蝕產物屬于非揮髮性的,容易造成邊牆的堆積而形成"駝峰"形,因而需要藉助于Ar+的輔助轟擊來消除邊牆堆積,典型的HfO2/光刻膠的刻蝕選擇比在0.2～0.5之間.在射頻源功率400 W、氣壓0.5 Pa、射頻偏壓-400 V、流量比為Ar∶CHF3∶H2=40 sccm∶18 sccm∶2 sccm的優化條件下,利用感應耦閤等離子體刻蝕特性,對光刻膠作為掩膜的HfO2/BK7玻璃進行刻蝕,掃描電鏡的測試結果錶明,光柵的圖形轉移效果較好.紅外激光波長為1064 nm時,所測得的光柵二級衍射效率在71%以上.
통과개변편압공솔화기체기압적굉관조건,이용CHF3,Ar화H2적감응우합등리자체(ICP)대HfO2화RZJ-306광각효진행료각식선택성실험연구.결과표명,HfO2여등리자체화학상호작용적각식산물속우비휘발성적,용역조성변장적퇴적이형성"타봉"형,인이수요차조우Ar+적보조굉격래소제변장퇴적,전형적HfO2/광각효적각식선택비재0.2～0.5지간.재사빈원공솔400 W、기압0.5 Pa、사빈편압-400 V、류량비위Ar∶CHF3∶H2=40 sccm∶18 sccm∶2 sccm적우화조건하,이용감응우합등리자체각식특성,대광각효작위엄막적HfO2/BK7파리진행각식,소묘전경적측시결과표명,광책적도형전이효과교호.홍외격광파장위1064 nm시,소측득적광책이급연사효솔재71%이상.
