MWECR CVD等离子体系统梯度磁场对沉积a-Si:H薄膜特性研究
MWECR CVD등리자체계통제도자장대침적a-Si:H박막특성연구
Investigation of a-Si:H film characteristics influenced by magnetic field gradient in MWECR CVD plasma system
  • 万方数据
    物理学报 물이학보

    2004年 7期 2263-2269 ,共7页

    胡跃辉%阴生毅%陈光华%吴越颖%周小明%周健儿%王青%张文理

    호약휘%음생의%진광화%오월영%주소명%주건인%왕청%장문리

    梯度磁场,洛伦兹拟合,a-Si:H薄膜,MWECR CVD系统 梯度磁場,洛倫玆擬閤,a-Si:H薄膜,MWECR CVD繫統
    제도자장,락륜자의합,a-Si:H박막,MWECR CVD계통
    分别研究了磁场线圈电流为115.2和137.7A以及137.7A并在加热台下加放SmCo永磁体的方法,来改变单磁场线圈分散场MWECR CVD系统等离子体室及沉积室磁场形貌.用洛伦兹拟合定量地得到了三种磁场形貌的磁场梯度.研究了磁场梯度对沉积a-Si:H薄膜性能的影响.研究表明:在衬底附近,高的磁场梯度可以获得高的沉积速率;在温度不很高时,高的磁场梯度可得到光敏性较好的a-Si:H薄膜.
    분별연구료자장선권전류위115.2화137.7A이급137.7A병재가열태하가방SmCo영자체적방법,래개변단자장선권분산장MWECR CVD계통등리자체실급침적실자장형모.용락륜자의합정량지득도료삼충자장형모적자장제도.연구료자장제도대침적a-Si:H박막성능적영향.연구표명:재츤저부근,고적자장제도가이획득고적침적속솔;재온도불흔고시,고적자장제도가득도광민성교호적a-Si:H박막.
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