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중국과기논문재선
SCIENCEPAPER ONLINE
2008年
4期
241-245
,共5页
蔡光旭%任峰%肖湘衡%范丽霞%蒋昌忠
蔡光旭%任峰%肖湘衡%範麗霞%蔣昌忠
채광욱%임봉%초상형%범려하%장창충
原子核物理学%纳米空洞%离子辐照%Ag纳米颗粒
原子覈物理學%納米空洞%離子輻照%Ag納米顆粒
원자핵물이학%납미공동%리자복조%Ag납미과립
离子辐照是控制金属纳米颗粒分布和结构的有效方法.将能量为200keV、剂量为5×1016 ions/cm2的Ag+注入到非晶SiO2中,形成Ag纳米颗粒层,再用能量为200和500keV的Ar+辐照Ag纳米颗粒.Ar+辐照后,在部分较大的Ag纳米颗粒中出现空洞,空洞的平均尺寸随着Ar+辐照剂量的增加而变大.辐照前,Ag纳米颗粒在非晶SiO2中沿纵向呈近似高斯分布,辐照后,投影射程附近的较大的Ag纳米颗粒平均尺寸变大,而投影射程下面的小颗粒逐渐消失.结合Trim程序模拟分析结果可知,Ar+辐照时的核能量损失和电子能量损失是影响Ag纳米颗粒尺寸分布和结构的重要因素.
離子輻照是控製金屬納米顆粒分佈和結構的有效方法.將能量為200keV、劑量為5×1016 ions/cm2的Ag+註入到非晶SiO2中,形成Ag納米顆粒層,再用能量為200和500keV的Ar+輻照Ag納米顆粒.Ar+輻照後,在部分較大的Ag納米顆粒中齣現空洞,空洞的平均呎吋隨著Ar+輻照劑量的增加而變大.輻照前,Ag納米顆粒在非晶SiO2中沿縱嚮呈近似高斯分佈,輻照後,投影射程附近的較大的Ag納米顆粒平均呎吋變大,而投影射程下麵的小顆粒逐漸消失.結閤Trim程序模擬分析結果可知,Ar+輻照時的覈能量損失和電子能量損失是影響Ag納米顆粒呎吋分佈和結構的重要因素.
리자복조시공제금속납미과립분포화결구적유효방법.장능량위200keV、제량위5×1016 ions/cm2적Ag+주입도비정SiO2중,형성Ag납미과립층,재용능량위200화500keV적Ar+복조Ag납미과립.Ar+복조후,재부분교대적Ag납미과립중출현공동,공동적평균척촌수착Ar+복조제량적증가이변대.복조전,Ag납미과립재비정SiO2중연종향정근사고사분포,복조후,투영사정부근적교대적Ag납미과립평균척촌변대,이투영사정하면적소과립축점소실.결합Trim정서모의분석결과가지,Ar+복조시적핵능량손실화전자능량손실시영향Ag납미과립척촌분포화결구적중요인소.