真空
真空
진공
VACUUM
2010年
3期
24-26
,共3页
贺耀华%鲍明东%贺志勇%梁柔%王英芹
賀耀華%鮑明東%賀誌勇%樑柔%王英芹
하요화%포명동%하지용%량유%왕영근
磁控溅射%离子镀%离化率%偏流密度
磁控濺射%離子鍍%離化率%偏流密度
자공천사%리자도%리화솔%편류밀도
应用闭合磁场非平衡磁控溅射离子镀系统,研究了溅射靶电流、偏压和Ar流量对偏流密度的影响.结果表明.偏流密度随着偏压和靶电流的升高而增大,但随偏压的提高偏流密度的增加趋势趋于平缓;偏流密度随着Ar流量的增大而出现峰值.
應用閉閤磁場非平衡磁控濺射離子鍍繫統,研究瞭濺射靶電流、偏壓和Ar流量對偏流密度的影響.結果錶明.偏流密度隨著偏壓和靶電流的升高而增大,但隨偏壓的提高偏流密度的增加趨勢趨于平緩;偏流密度隨著Ar流量的增大而齣現峰值.
응용폐합자장비평형자공천사리자도계통,연구료천사파전류、편압화Ar류량대편류밀도적영향.결과표명.편류밀도수착편압화파전류적승고이증대,단수편압적제고편류밀도적증가추세추우평완;편류밀도수착Ar류량적증대이출현봉치.
