复旦学报(自然科学版)
複旦學報(自然科學版)
복단학보(자연과학판)
JOURNAL OF FUDAN UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)
2003年
6期
917-924
,共8页
孔祖萍%郑岳青%张飚%金松林%岳斌
孔祖萍%鄭嶽青%張飚%金鬆林%嶽斌
공조평%정악청%장표%금송림%악빈
铜(II)配位物%超分子组装,合成%晶体结构%芳环堆积
銅(II)配位物%超分子組裝,閤成%晶體結構%芳環堆積
동(II)배위물%초분자조장,합성%정체결구%방배퇴적
合成了两种新型Cu(II)-邻菲咯啉-丁二酸三元配合物, 即[Cu(phen)2L](H2L)*5H2O(1)和[(phen)2CuLCu(phen)2]L*10H2O(2), 它们均属三斜晶系, 空间群为P1(no.2), 晶胞参数分别为:(1)a=10.282(3), b=12.141(3), c=14.233(4) (A),α=78.55(2)°,β=76.50(2)°,γ=84.29(2)°,V=1 690.7(9) (A)3,Z=2,R=0.102 1,wR2=0.138 7;(2) a=12.943(2),b=14.436(2),c=17.974(3) (A),α=75.128(9)°,β=69.030(9)°,γ=69.02(1)°,V=289 6.2(9) (A)3,Z=2,R=0.097 6,wR2=0.224 0. 结构分析表明,每个Cu原子与分属于2个邻菲咯啉配体的4个N原子和来自丁二酸根的2个O原子形成配位数为6的畸变八面体CuN4O2. 配合物(1)中配位分子间通过芳环堆积作用形成平行[011]方向的一维超分子链,超分子链之间通过结晶水分子的氢键作用形成二维层,并进而堆积形成一维隧道和三维骨架,丁二酸分子和其余结晶水分子位于隧道内. 配合物(2)中丁二酸根桥联的双核配阳离子借助芳环堆积作用形成平行于(010)面的正电性二维层, C4H4O42-离子和结晶水分子位于正电层之间并形成负电性二维网络层.
閤成瞭兩種新型Cu(II)-鄰菲咯啉-丁二痠三元配閤物, 即[Cu(phen)2L](H2L)*5H2O(1)和[(phen)2CuLCu(phen)2]L*10H2O(2), 它們均屬三斜晶繫, 空間群為P1(no.2), 晶胞參數分彆為:(1)a=10.282(3), b=12.141(3), c=14.233(4) (A),α=78.55(2)°,β=76.50(2)°,γ=84.29(2)°,V=1 690.7(9) (A)3,Z=2,R=0.102 1,wR2=0.138 7;(2) a=12.943(2),b=14.436(2),c=17.974(3) (A),α=75.128(9)°,β=69.030(9)°,γ=69.02(1)°,V=289 6.2(9) (A)3,Z=2,R=0.097 6,wR2=0.224 0. 結構分析錶明,每箇Cu原子與分屬于2箇鄰菲咯啉配體的4箇N原子和來自丁二痠根的2箇O原子形成配位數為6的畸變八麵體CuN4O2. 配閤物(1)中配位分子間通過芳環堆積作用形成平行[011]方嚮的一維超分子鏈,超分子鏈之間通過結晶水分子的氫鍵作用形成二維層,併進而堆積形成一維隧道和三維骨架,丁二痠分子和其餘結晶水分子位于隧道內. 配閤物(2)中丁二痠根橋聯的雙覈配暘離子藉助芳環堆積作用形成平行于(010)麵的正電性二維層, C4H4O42-離子和結晶水分子位于正電層之間併形成負電性二維網絡層.
합성료량충신형Cu(II)-린비각람-정이산삼원배합물, 즉[Cu(phen)2L](H2L)*5H2O(1)화[(phen)2CuLCu(phen)2]L*10H2O(2), 타문균속삼사정계, 공간군위P1(no.2), 정포삼수분별위:(1)a=10.282(3), b=12.141(3), c=14.233(4) (A),α=78.55(2)°,β=76.50(2)°,γ=84.29(2)°,V=1 690.7(9) (A)3,Z=2,R=0.102 1,wR2=0.138 7;(2) a=12.943(2),b=14.436(2),c=17.974(3) (A),α=75.128(9)°,β=69.030(9)°,γ=69.02(1)°,V=289 6.2(9) (A)3,Z=2,R=0.097 6,wR2=0.224 0. 결구분석표명,매개Cu원자여분속우2개린비각람배체적4개N원자화래자정이산근적2개O원자형성배위수위6적기변팔면체CuN4O2. 배합물(1)중배위분자간통과방배퇴적작용형성평행[011]방향적일유초분자련,초분자련지간통과결정수분자적경건작용형성이유층,병진이퇴적형성일유수도화삼유골가,정이산분자화기여결정수분자위우수도내. 배합물(2)중정이산근교련적쌍핵배양리자차조방배퇴적작용형성평행우(010)면적정전성이유층, C4H4O42-리자화결정수분자위우정전층지간병형성부전성이유망락층.