脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展
맥충격광침적법제비이양화범박막적연구진전
Research Progress of Vanadium Dioxide Thin Film Fabricated by Pulsed Laser Deposition
  • 万方数据
    激光与光电子学进展 격광여광전자학진전
    LASER & OPTOELECTRONICS PROGRESS
    2009年 6期 49-53,48 ,共6页

    王海方%李毅%蒋群杰%俞晓静%胡双双%武斌%张虎%黄毅泽%张伟

    왕해방%리의%장군걸%유효정%호쌍쌍%무빈%장호%황의택%장위

    薄膜%VO2薄膜%脉冲激光沉积%制备%掺杂 薄膜%VO2薄膜%脈遲激光沉積%製備%摻雜
    박막%VO2박막%맥충격광침적%제비%참잡
    主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点,详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和同内外研究进展,并与几种常规制备方法进行了对比,给出了脉冲激光沉积掺杂对VO2溥膜特性的影响,以及脉冲激光沉积制备VO2纳米材料,讨论了脉冲激光沉积制备VO2薄膜存在的问题和发展方向.
    주요천술료맥충격광침적(PLD)기술재제비금속양화물방면적물리과정화기술특점,상세개소료맥충격광침적제비이양화범(VO2)박막적공예삼수화동내외연구진전,병여궤충상규제비방법진행료대비,급출료맥충격광침적참잡대VO2부막특성적영향,이급맥충격광침적제비VO2납미재료,토론료맥충격광침적제비VO2박막존재적문제화발전방향.
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