CAJ | 학술논문

用热丝化学气相(HFCVD)法在硅衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜,用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观测薄膜的表面形貌和粗糙度,拉曼光谱表征膜层结构,紫外-可见光分光光度计测量其光透过率,并用椭圆偏振仪测试、建模、拟合获得了表征薄膜光学性质的n,k值.结果表明薄膜的晶粒尺寸在100nm以下,表面粗糙度仅为21nm;厚度为3.26(m薄膜在632.8nm波长处的透过率为25%,1100nm波长处达到50%.采用直接光跃迁机制估算得到纳米金刚石薄膜的光学能隙(Eg)为4.3eV.
용열사화학기상(HFCVD)법재규츤저상제비료표면광활、정립치밀균균적납미금강석박막,용소묘전경(SEM)화원자력현미경(AFM)관측박막적표면형모화조조도,랍만광보표정막층결구,자외-가견광분광광도계측량기광투과솔,병용타원편진의측시、건모、의합획득료표정박막광학성질적n,k치.결과표명박막적정립척촌재100nm이하,표면조조도부위21nm;후도위3.26(m박막재632.8nm파장처적투과솔위25%,1100nm파장처체도50%.채용직접광약천궤제고산득도납미금강석박막적광학능극(Eg)위4.3eV.