华侨大学学报（自然科学版）
華僑大學學報（自然科學版）
화교대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF HUAQIAO UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)
2012年
4期
380-383
,共4页
三阶非线性%光学性质%Ge/Al-SiO2薄膜%Z扫描技术%磁控溅射
三階非線性%光學性質%Ge/Al-SiO2薄膜%Z掃描技術%磁控濺射
삼계비선성%광학성질%Ge/Al-SiO2박막%Z소묘기술%자공천사
采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1 064 nm的光具有自散焦和双光子吸收效应,薄膜的三阶极化率x(3)为3.84×10-16 m2·V-2.薄膜材料的三阶非线性极化率比SiO2和GeO2均有显著的提高,说明薄膜材料中的纳米Ge颗粒的量子限域效应及双光子吸收效应是其产生非线性光学效应增强的主要原因,同时Al的掺杂也促进了材料的三阶非线性光学效应的增强.
採用磁控共濺射及後退火技術製備Ge,Al共摻SiO2薄膜,通過X射線衍射譜和傅裏葉紅外吸收譜對樣品進行錶徵,併採用皮秒脈遲激光器的單光束Z掃描技術研究薄膜的三階非線性光學特性.研究結果錶明:薄膜材料對1 064 nm的光具有自散焦和雙光子吸收效應,薄膜的三階極化率x(3)為3.84×10-16 m2·V-2.薄膜材料的三階非線性極化率比SiO2和GeO2均有顯著的提高,說明薄膜材料中的納米Ge顆粒的量子限域效應及雙光子吸收效應是其產生非線性光學效應增彊的主要原因,同時Al的摻雜也促進瞭材料的三階非線性光學效應的增彊.
채용자공공천사급후퇴화기술제비Ge,Al공참SiO2박막,통과X사선연사보화부리협홍외흡수보대양품진행표정,병채용피초맥충격광기적단광속Z소묘기술연구박막적삼계비선성광학특성.연구결과표명:박막재료대1 064 nm적광구유자산초화쌍광자흡수효응,박막적삼계겁화솔x(3)위3.84×10-16 m2·V-2.박막재료적삼계비선성겁화솔비SiO2화GeO2균유현저적제고,설명박막재료중적납미Ge과립적양자한역효응급쌍광자흡수효응시기산생비선성광학효응증강적주요원인,동시Al적참잡야촉진료재료적삼계비선성광학효응적증강.
