消除CCD不良背景的工艺研究
소제CCD불량배경적공예연구
Study on Eliminating CCD's Harmful Background
  • 万方数据
    半导体光电 반도체광전
    SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS
    2008年 3期 387-389 ,共3页

    李平%郑杏平%李仁豪%雷仁方%许宏%韩恒利%陈捷%张故万%汪琳

    리평%정행평%리인호%뢰인방%허굉%한항리%진첩%장고만%왕림

    电荷耦合器件%不良背景%栅介质%本征吸杂%低温退火 電荷耦閤器件%不良揹景%柵介質%本徵吸雜%低溫退火
    전하우합기건%불량배경%책개질%본정흡잡%저온퇴화
    对电荷耦合器件(CCD)交流成像中存在的背景发白、亮条、亮点、拖影和固定图像噪声等不良背景进行了分析,并提出了调整栅介质生长方法、本征吸杂、低温退火等消除不良背景的具体工艺方法,获得了高质量的CCD器件.测试结果表明,其交流成像中的不良背景得到了有效控制.
    대전하우합기건(CCD)교류성상중존재적배경발백、량조、량점、타영화고정도상조성등불량배경진행료분석,병제출료조정책개질생장방법、본정흡잡、저온퇴화등소제불량배경적구체공예방법,획득료고질량적CCD기건.측시결과표명,기교류성상중적불량배경득도료유효공제.
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