真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2009年
2期
135-138
,共4页
蒋春丽%鲜晓斌%肖红%陆雷
蔣春麗%鮮曉斌%肖紅%陸雷
장춘려%선효빈%초홍%륙뢰
铀薄膜%铜%俄歇电子能谱
鈾薄膜%銅%俄歇電子能譜
유박막%동%아헐전자능보
在俄歇电子能谱仪超高真空室内,采用离子束溅射沉积方法在多晶cu上沉积了铀薄膜,采用俄歇电子能谱技术(AES)研究铀薄膜的生长方式,铀、铜的相互作用及退火引起u膜成分结构变化.沉积初期观察到铀与铜发生相互作用,随着铀薄膜厚度的增加,UOPV/CuLMM俄歇跃迁峰强度值变化说明铀薄膜为层状+岛状生长.退火促进了界面扩散,随着温度的升高,铀与铜发生了相互作用和扩散,温度继续升高,铀与碳形成了铀碳化物.
在俄歇電子能譜儀超高真空室內,採用離子束濺射沉積方法在多晶cu上沉積瞭鈾薄膜,採用俄歇電子能譜技術(AES)研究鈾薄膜的生長方式,鈾、銅的相互作用及退火引起u膜成分結構變化.沉積初期觀察到鈾與銅髮生相互作用,隨著鈾薄膜厚度的增加,UOPV/CuLMM俄歇躍遷峰彊度值變化說明鈾薄膜為層狀+島狀生長.退火促進瞭界麵擴散,隨著溫度的升高,鈾與銅髮生瞭相互作用和擴散,溫度繼續升高,鈾與碳形成瞭鈾碳化物.
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