沈阳理工大学学报
瀋暘理工大學學報
침양리공대학학보
JOURNAL OF SHENYANG INTITUTE OF TECHNOLOGY
2006年
1期
78-82
,共5页
吕树国%李玉海%张罡%姚俊%毕鉴智%金光
呂樹國%李玉海%張罡%姚俊%畢鑒智%金光
려수국%리옥해%장강%요준%필감지%금광
电弧离子镀%TiAlN膜层%偏压%抗氧化性%气体离子源
電弧離子鍍%TiAlN膜層%偏壓%抗氧化性%氣體離子源
전호리자도%TiAlN막층%편압%항양화성%기체리자원
采用阴极电弧离子镀技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢基材上制备TiAlN膜层,镀膜装置为俄罗斯科学院UVN 0.5D2I电弧离子镀膜机,该设备由一个大功率的气体离子源和两个金属蒸发源组成.气体离子源具有气体离子轰击和辅助沉积的特点.研究了电弧电流、负偏压和气体离子源功率等工艺参数对膜层的影响规律.实验结果表明:气体离子源具有明显的细化金属颗粒的作用.提出了制备TiAlN膜层的最佳工艺,得到了厚度为5 ～10μm、相结构为Ti0.5Al0.5N、显微硬度为1200HV0.01的TiAlN膜层.
採用陰極電弧離子鍍技術在1Cr18Ni9Ti不鏽鋼基材上製備TiAlN膜層,鍍膜裝置為俄囉斯科學院UVN 0.5D2I電弧離子鍍膜機,該設備由一箇大功率的氣體離子源和兩箇金屬蒸髮源組成.氣體離子源具有氣體離子轟擊和輔助沉積的特點.研究瞭電弧電流、負偏壓和氣體離子源功率等工藝參數對膜層的影響規律.實驗結果錶明:氣體離子源具有明顯的細化金屬顆粒的作用.提齣瞭製備TiAlN膜層的最佳工藝,得到瞭厚度為5 ～10μm、相結構為Ti0.5Al0.5N、顯微硬度為1200HV0.01的TiAlN膜層.
채용음겁전호리자도기술재1Cr18Ni9Ti불수강기재상제비TiAlN막층,도막장치위아라사과학원UVN 0.5D2I전호리자도막궤,해설비유일개대공솔적기체리자원화량개금속증발원조성.기체리자원구유기체리자굉격화보조침적적특점.연구료전호전류、부편압화기체리자원공솔등공예삼수대막층적영향규률.실험결과표명:기체리자원구유명현적세화금속과립적작용.제출료제비TiAlN막층적최가공예,득도료후도위5 ～10μm、상결구위Ti0.5Al0.5N、현미경도위1200HV0.01적TiAlN막층.
