高技术通讯
高技術通訊
고기술통신
HIGH TECHNOLOGY LETTERS
2009年
1期
76-81
,共6页
微加工%光刻%虚拟工艺%工艺模拟
微加工%光刻%虛擬工藝%工藝模擬
미가공%광각%허의공예%공예모의
提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D.该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型,实现了投影式光学光刻的三维模拟.它拥有标准的GDSII、CIF版图格式接口和支持各种光学参数(包括数值孔径、波长、离焦量,光刻胶厚度、表面折射率等)的模拟设置.模拟结果的显示采用了体绘制与网格相结合的方法,增强了结果的可视性.此外,光刻模拟结果可以直接导入到虚拟工艺系统ZProcess中作为刻蚀工艺的掩膜输入,实现了光刻工艺与其他微机电系统(MEMS)工艺模拟的无缝集成.一系列模拟结果验证了该系统的可行性.
提齣瞭一種麵嚮微加工的虛擬光刻繫統Litho3D.該繫統採用傅立葉光學成像模型、光刻膠曝光及顯影模型,實現瞭投影式光學光刻的三維模擬.它擁有標準的GDSII、CIF版圖格式接口和支持各種光學參數(包括數值孔徑、波長、離焦量,光刻膠厚度、錶麵摺射率等)的模擬設置.模擬結果的顯示採用瞭體繪製與網格相結閤的方法,增彊瞭結果的可視性.此外,光刻模擬結果可以直接導入到虛擬工藝繫統ZProcess中作為刻蝕工藝的掩膜輸入,實現瞭光刻工藝與其他微機電繫統(MEMS)工藝模擬的無縫集成.一繫列模擬結果驗證瞭該繫統的可行性.
제출료일충면향미가공적허의광각계통Litho3D.해계통채용부립협광학성상모형、광각효폭광급현영모형,실현료투영식광학광각적삼유모의.타옹유표준적GDSII、CIF판도격식접구화지지각충광학삼수(포괄수치공경、파장、리초량,광각효후도、표면절사솔등)적모의설치.모의결과적현시채용료체회제여망격상결합적방법,증강료결과적가시성.차외,광각모의결과가이직접도입도허의공예계통ZProcess중작위각식공예적엄막수입,실현료광각공예여기타미궤전계통(MEMS)공예모의적무봉집성.일계렬모의결과험증료해계통적가행성.
