CAJ | 학술논문

直流等离子体化学气相沉积法（DC—PCVD）具有生长速率快、成膜面积大、成膜质量高、成本低等优点，是一项非常有前景的工业合成金刚石膜技术。本文采用DC—PCVD法，在硬质合金YG6基体上沉积了金刚石薄膜。通过断面形貌观察，金刚石膜厚3．35μm，平均生长速率达到0．56μm／h。金刚石膜与硬质合金基底结合紧密。Raman光谱表明，DC—PCVD法生长的金刚石膜sp2含量极低，说明金刚石膜品质较高。
직류등리자체화학기상침적법（DC—PCVD）구유생장속솔쾌、성막면적대、성막질량고、성본저등우점，시일항비상유전경적공업합성금강석막기술。본문채용DC—PCVD법，재경질합금YG6기체상침적료금강석박막。통과단면형모관찰，금강석막후3．35μm，평균생장속솔체도0．56μm／h。금강석막여경질합금기저결합긴밀。Raman광보표명，DC—PCVD법생장적금강석막sp2함량겁저，설명금강석막품질교고。