金刚石与磨料磨具工程
金剛石與磨料磨具工程
금강석여마료마구공정
DIAMOND & ABRASIVES ENGINNERING
2010年
5期
44-48
,共5页
张营营%李成明%陈良贤%刘金龙%黑立富%吕反修
張營營%李成明%陳良賢%劉金龍%黑立富%呂反脩
장영영%리성명%진량현%류금룡%흑립부%려반수
金刚石膜%均匀性%真空退火%表面粗糙度
金剛石膜%均勻性%真空退火%錶麵粗糙度
금강석막%균균성%진공퇴화%표면조조도
对直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术,在φ76.2 mm的Si衬底上沉积得到的金刚石膜,通过SEM和激光Raman表征其质量均匀性.为缓解金刚石膜 /Si复合片的内应力,采用台阶式冷却的方式,对样品在1 050 ℃进行真空退火处理,使样品内的压应力从3.09 GPa减小到1.16 GPa.对样品生长面进行机械抛光,采用表面轮廓仪检测其表面粗糙度均匀性.结果表明:在φ76.2 mm的金刚石膜/Si复合片上获得的表面粗糙度小于5 nm.
對直流電弧等離子體噴射化學氣相沉積技術,在φ76.2 mm的Si襯底上沉積得到的金剛石膜,通過SEM和激光Raman錶徵其質量均勻性.為緩解金剛石膜 /Si複閤片的內應力,採用檯階式冷卻的方式,對樣品在1 050 ℃進行真空退火處理,使樣品內的壓應力從3.09 GPa減小到1.16 GPa.對樣品生長麵進行機械拋光,採用錶麵輪廓儀檢測其錶麵粗糙度均勻性.結果錶明:在φ76.2 mm的金剛石膜/Si複閤片上穫得的錶麵粗糙度小于5 nm.
대직류전호등리자체분사화학기상침적기술,재φ76.2 mm적Si츤저상침적득도적금강석막,통과SEM화격광Raman표정기질량균균성.위완해금강석막 /Si복합편적내응력,채용태계식냉각적방식,대양품재1 050 ℃진행진공퇴화처리,사양품내적압응력종3.09 GPa감소도1.16 GPa.대양품생장면진행궤계포광,채용표면륜곽의검측기표면조조도균균성.결과표명:재φ76.2 mm적금강석막/Si복합편상획득적표면조조도소우5 nm.
