核技术
覈技術
핵기술
NUCLEAR TECHNIQUES
2007年
5期
419-423
,共5页
氧化铬薄膜%动态离子束混合技术%X射线光电子能谱%俄歇电子能谱
氧化鉻薄膜%動態離子束混閤技術%X射線光電子能譜%俄歇電子能譜
양화락박막%동태리자속혼합기술%X사선광전자능보%아헐전자능보
本文介绍的动态离子束混合技术制备氧化铬薄膜系在不锈钢基体上进行1keV氩离子束溅射沉积铬(同时通入一定量的O),并用100 keV的氩离子束或氧离子束轰击该样品.对两种离子束轰击形成的氧化铬薄膜进行了X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)和俄歇电子能谱(Auger electron spectroscopy,AES)的分析研究.发现Ar+离子束制备的氧化铬薄膜主要是Cr2O3化合物,而O+离子束制备的氧化铬薄膜含有其它价态的铬氧化物.Ar+离子束制备氧化铬薄膜的污染碳少于O+离子束制备.与O+离子束制备相比较,相同能量的Ar+离子束轰击更有利于提高沉积的Cr原子与周围O2的反应性;Ar+离子束制备的氧化铬薄膜过渡层的厚1/3左右,较厚的过渡层显示了制备的薄膜具有较好的附着力.
本文介紹的動態離子束混閤技術製備氧化鉻薄膜繫在不鏽鋼基體上進行1keV氬離子束濺射沉積鉻(同時通入一定量的O),併用100 keV的氬離子束或氧離子束轟擊該樣品.對兩種離子束轟擊形成的氧化鉻薄膜進行瞭X射線光電子能譜(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)和俄歇電子能譜(Auger electron spectroscopy,AES)的分析研究.髮現Ar+離子束製備的氧化鉻薄膜主要是Cr2O3化閤物,而O+離子束製備的氧化鉻薄膜含有其它價態的鉻氧化物.Ar+離子束製備氧化鉻薄膜的汙染碳少于O+離子束製備.與O+離子束製備相比較,相同能量的Ar+離子束轟擊更有利于提高沉積的Cr原子與週圍O2的反應性;Ar+離子束製備的氧化鉻薄膜過渡層的厚1/3左右,較厚的過渡層顯示瞭製備的薄膜具有較好的附著力.
본문개소적동태리자속혼합기술제비양화락박막계재불수강기체상진행1keV아리자속천사침적락(동시통입일정량적O),병용100 keV적아리자속혹양리자속굉격해양품.대량충리자속굉격형성적양화락박막진행료X사선광전자능보(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)화아헐전자능보(Auger electron spectroscopy,AES)적분석연구.발현Ar+리자속제비적양화락박막주요시Cr2O3화합물,이O+리자속제비적양화락박막함유기타개태적락양화물.Ar+리자속제비양화락박막적오염탄소우O+리자속제비.여O+리자속제비상비교,상동능량적Ar+리자속굉격경유리우제고침적적Cr원자여주위O2적반응성;Ar+리자속제비적양화락박막과도층적후1/3좌우,교후적과도층현시료제비적박막구유교호적부착력.
