CAJ | 학술논문

在室温条件下采用直流反应磁控溅射法制备了新型透明导电In2O3:Mo薄膜.研究了溅射压强中氧气百分含量[P(O2)]为8.0%～18.0%时对薄膜光电特性以及表面形貌结构的影响.结果表明,薄膜的光电性能对溅射压强中P(O2)非常敏感.分析显示P(O2)决定了薄膜中的氧空位含量和载流子浓度,从而影响了薄膜的光电特性.原子力显微镜观察表明,适量的P(O2)条件下可以获得平均粗糙度为0.3 nm、颗粒均匀、表面平整的薄膜.室温制备的IMO薄膜在可见光区域的平均透射率(含玻璃基底)高达82.1%,电阻率低至5.9×10-4 Ω·cm.
재실온조건하채용직류반응자공천사법제비료신형투명도전In2O3:Mo박막.연구료천사압강중양기백분함량[P(O2)]위8.0%～18.0%시대박막광전특성이급표면형모결구적영향.결과표명,박막적광전성능대천사압강중P(O2)비상민감.분석현시P(O2)결정료박막중적양공위함량화재류자농도,종이영향료박막적광전특성.원자력현미경관찰표명,괄량적P(O2)조건하가이획득평균조조도위0.3 nm、과립균균、표면평정적박막.실온제비적IMO박막재가견광구역적평균투사솔(함파리기저)고체82.1%,전조솔저지5.9×10-4 Ω·cm.