中国科学E辑
中國科學E輯
중국과학E집
SCIENCE IN CHINA (SERIES E)
2003年
9期
778-782
,共5页
于广华%李明华%朱逢吾%柴春林%姜宏伟%赖武彦
于廣華%李明華%硃逢吾%柴春林%薑宏偉%賴武彥
우엄화%리명화%주봉오%시춘림%강굉위%뢰무언
NiFe/FeMn NiFe/Cu/NiFe/FeMn 层间偏聚 交换耦合场Hex X射线光电子能谱
NiFe/FeMn NiFe/Cu/NiFe/FeMn 層間偏聚 交換耦閤場Hex X射線光電子能譜
NiFe/FeMn NiFe/Cu/NiFe/FeMn 층간편취 교환우합장Hex X사선광전자능보
实验结果表明Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜的交换耦合场Hex要大于Ta/NiFe/Cu /NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的Hex. 为了寻找其原因, 用X射线光电子能谱(XPS)研究了Ta(12 nm)/NiFe(7 nm), Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/Cu(4 nm)和Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/ Cu(3 nm)/NiFe(5 nm) 3种样品, 研究结果表明前两种样品表面无任何来自下层的元素偏聚, 但在第3种样品最上层的NiFe表面上, 探测到从下层偏聚上来的Cu原子. 认为: Cu在NiFe/FeMn层间的存在是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的Hex低于Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜Hex的一个重要原因.
實驗結果錶明Ta/NiFe/FeMn/Ta多層膜的交換耦閤場Hex要大于Ta/NiFe/Cu /NiFe/FeMn/Ta自鏇閥多層膜中的Hex. 為瞭尋找其原因, 用X射線光電子能譜(XPS)研究瞭Ta(12 nm)/NiFe(7 nm), Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/Cu(4 nm)和Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/ Cu(3 nm)/NiFe(5 nm) 3種樣品, 研究結果錶明前兩種樣品錶麵無任何來自下層的元素偏聚, 但在第3種樣品最上層的NiFe錶麵上, 探測到從下層偏聚上來的Cu原子. 認為: Cu在NiFe/FeMn層間的存在是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自鏇閥多層膜的Hex低于Ta/NiFe/FeMn/Ta多層膜Hex的一箇重要原因.
실험결과표명Ta/NiFe/FeMn/Ta다층막적교환우합장Hex요대우Ta/NiFe/Cu /NiFe/FeMn/Ta자선벌다층막중적Hex. 위료심조기원인, 용X사선광전자능보(XPS)연구료Ta(12 nm)/NiFe(7 nm), Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/Cu(4 nm)화Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/ Cu(3 nm)/NiFe(5 nm) 3충양품, 연구결과표명전량충양품표면무임하래자하층적원소편취, 단재제3충양품최상층적NiFe표면상, 탐측도종하층편취상래적Cu원자. 인위: Cu재NiFe/FeMn층간적존재시Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta자선벌다층막적Hex저우Ta/NiFe/FeMn/Ta다층막Hex적일개중요원인.
