吉林大学自然科学学报
吉林大學自然科學學報
길림대학자연과학학보
ACTA SCIENTIARUM NATURALIUM UNIVERSITATIS JILINENSIS
2001年
4期
53-56
,共4页
吴远大%邢华%卓仲畅%余永森%郑伟%刘国范%张玉书
吳遠大%邢華%卓仲暢%餘永森%鄭偉%劉國範%張玉書
오원대%형화%탁중창%여영삼%정위%류국범%장옥서
火焰水解法(FHD)%高温致密化%玻璃态SiO2
火燄水解法(FHD)%高溫緻密化%玻璃態SiO2
화염수해법(FHD)%고온치밀화%파리태SiO2
采用火焰水解法(FHD)在Si片上快速淀积出SiO2厚膜材料,材料膜厚40μm以上,生长速率8μm/min.将该材料分别在真空中和空气中高温致密化处理,获得各种形态的二氧化硅厚膜材料.利用XRD,SEM,电子显微镜等仪器对SiO2膜的表面和膜厚进行测试分析.
採用火燄水解法(FHD)在Si片上快速澱積齣SiO2厚膜材料,材料膜厚40μm以上,生長速率8μm/min.將該材料分彆在真空中和空氣中高溫緻密化處理,穫得各種形態的二氧化硅厚膜材料.利用XRD,SEM,電子顯微鏡等儀器對SiO2膜的錶麵和膜厚進行測試分析.
채용화염수해법(FHD)재Si편상쾌속정적출SiO2후막재료,재료막후40μm이상,생장속솔8μm/min.장해재료분별재진공중화공기중고온치밀화처리,획득각충형태적이양화규후막재료.이용XRD,SEM,전자현미경등의기대SiO2막적표면화막후진행측시분석.
