电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2001年
5期
640-644
,共5页
谢兆雄%毛秉伟%卢伙贵%陈意安
謝兆雄%毛秉偉%盧夥貴%陳意安
사조웅%모병위%로화귀%진의안
扫描隧道显微镜%纳米构筑%电化学活性位%铜
掃描隧道顯微鏡%納米構築%電化學活性位%銅
소묘수도현미경%납미구축%전화학활성위%동
在电极电位稍负于其Nernst电位时,较正的探针电位可以诱导铜表面的局域刻蚀;同时,利用这一诱导刻蚀可以方便地人工构筑电极表面电化学活性位或特定的纳米结构,如现场构筑坑(pit)、螺旋岛(spiral island)和岛(island)等电化学活性位;并现场研究它们相关的(电)化学反应.
在電極電位稍負于其Nernst電位時,較正的探針電位可以誘導銅錶麵的跼域刻蝕;同時,利用這一誘導刻蝕可以方便地人工構築電極錶麵電化學活性位或特定的納米結構,如現場構築坑(pit)、螺鏇島(spiral island)和島(island)等電化學活性位;併現場研究它們相關的(電)化學反應.
재전겁전위초부우기Nernst전위시,교정적탐침전위가이유도동표면적국역각식;동시,이용저일유도각식가이방편지인공구축전겁표면전화학활성위혹특정적납미결구,여현장구축갱(pit)、라선도(spiral island)화도(island)등전화학활성위;병현장연구타문상관적(전)화학반응.
