分析试验室
分析試驗室
분석시험실
ANALYTICAL LABORATORY
2001年
6期
67-69
,共3页
电子级高纯硝酸%ICP-MS%痕量金属杂质
電子級高純硝痠%ICP-MS%痕量金屬雜質
전자급고순초산%ICP-MS%흔량금속잡질
用ICP-MS的不同状态(标准状态、冷等离子体技术、碰撞池技术)直接测定电子级高纯硝酸中的34个痕量金属杂质,用铟作内标可补偿基体效应,方法检出限为0.1～70 ng/L,加标回收率为90%～110%,相对标准偏差为4.0%,样品测定结果与ICP-AES测定结果基本一致.
用ICP-MS的不同狀態(標準狀態、冷等離子體技術、踫撞池技術)直接測定電子級高純硝痠中的34箇痕量金屬雜質,用銦作內標可補償基體效應,方法檢齣限為0.1～70 ng/L,加標迴收率為90%～110%,相對標準偏差為4.0%,樣品測定結果與ICP-AES測定結果基本一緻.
용ICP-MS적불동상태(표준상태、랭등리자체기술、팽당지기술)직접측정전자급고순초산중적34개흔량금속잡질,용인작내표가보상기체효응,방법검출한위0.1～70 ng/L,가표회수솔위90%～110%,상대표준편차위4.0%,양품측정결과여ICP-AES측정결과기본일치.
