大连交通大学学报
大連交通大學學報
대련교통대학학보
JOURNAL OF DALIAN JIAOTONG UNIVERSITY
2010年
6期
61-64
,共4页
柴卫平%赵景训%王华林%丁万昱
柴衛平%趙景訓%王華林%丁萬昱
시위평%조경훈%왕화림%정만욱
ITO薄膜%磁控溅射%可见光透过率%方块电阻
ITO薄膜%磁控濺射%可見光透過率%方塊電阻
ITO박막%자공천사%가견광투과솔%방괴전조
利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备ITO薄膜.通过台阶仪、紫外-可见分光光度计、四探针仪等表征技术,研究了沉积气压、溅射功率,以及Ar/O2流量比等对ITO薄膜沉积速率、光学性能,以及电学性能的影响.研究结果表明,薄膜沉积速率随沉积气压的增大而减小,随功率的增大而增大;方块电阻随气压的增大而增大,随功率的增大而减小;可见光平均透过率主要受O2流量的影响.在沉积气压为0.5Pa,Ar/O2 流量比为20:0,溅射功率为250W,膜厚为200nm时,薄膜的方块电阻为27Ω/□,可见光平均透过率为84.1%.
利用直流脈遲磁控濺射法在室溫下製備ITO薄膜.通過檯階儀、紫外-可見分光光度計、四探針儀等錶徵技術,研究瞭沉積氣壓、濺射功率,以及Ar/O2流量比等對ITO薄膜沉積速率、光學性能,以及電學性能的影響.研究結果錶明,薄膜沉積速率隨沉積氣壓的增大而減小,隨功率的增大而增大;方塊電阻隨氣壓的增大而增大,隨功率的增大而減小;可見光平均透過率主要受O2流量的影響.在沉積氣壓為0.5Pa,Ar/O2 流量比為20:0,濺射功率為250W,膜厚為200nm時,薄膜的方塊電阻為27Ω/□,可見光平均透過率為84.1%.
이용직류맥충자공천사법재실온하제비ITO박막.통과태계의、자외-가견분광광도계、사탐침의등표정기술,연구료침적기압、천사공솔,이급Ar/O2류량비등대ITO박막침적속솔、광학성능,이급전학성능적영향.연구결과표명,박막침적속솔수침적기압적증대이감소,수공솔적증대이증대;방괴전조수기압적증대이증대,수공솔적증대이감소;가견광평균투과솔주요수O2류량적영향.재침적기압위0.5Pa,Ar/O2 류량비위20:0,천사공솔위250W,막후위200nm시,박막적방괴전조위27Ω/□,가견광평균투과솔위84.1%.