稀有金属
稀有金屬
희유금속
CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
2012年
3期
410-414
,共5页
赵志明%张晓静%马二云%曹智睿%白力静%蒋百灵
趙誌明%張曉靜%馬二雲%曹智睿%白力靜%蔣百靈
조지명%장효정%마이운%조지예%백력정%장백령
磁感应强度分布因子%Mo薄膜%磁控溅射%电阻率
磁感應彊度分佈因子%Mo薄膜%磁控濺射%電阻率
자감응강도분포인자%Mo박막%자공천사%전조솔
在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜.实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响.分别利用XRD,SEM和四探针技术对Mo薄膜的相结构、表面和截面形貌及电阻率进行表征分析.结果表明,随着磁控阴极S值的增加,Mo靶放电电压降低,而放电电流增加；不同S值的磁控阴极沉积的Mo薄膜均呈现多晶结构,且具有柱状生长特征；随着磁控阴极S因子的增加Mo膜的厚度和电导率呈现先增加而后减小的变化规律,电阻率最小可达4.9×10-6Ω·cm.
在室溫下,利用不同磁感應彊度相對分佈因子S的磁控陰極濺射沉積瞭金屬Mo薄膜.實驗研究瞭磁控陰極S值對放電參數、Mo薄膜的結構、形貌及性能的影響.分彆利用XRD,SEM和四探針技術對Mo薄膜的相結構、錶麵和截麵形貌及電阻率進行錶徵分析.結果錶明,隨著磁控陰極S值的增加,Mo靶放電電壓降低,而放電電流增加；不同S值的磁控陰極沉積的Mo薄膜均呈現多晶結構,且具有柱狀生長特徵；隨著磁控陰極S因子的增加Mo膜的厚度和電導率呈現先增加而後減小的變化規律,電阻率最小可達4.9×10-6Ω·cm.
재실온하,이용불동자감응강도상대분포인자S적자공음겁천사침적료금속Mo박막.실험연구료자공음겁S치대방전삼수、Mo박막적결구、형모급성능적영향.분별이용XRD,SEM화사탐침기술대Mo박막적상결구、표면화절면형모급전조솔진행표정분석.결과표명,수착자공음겁S치적증가,Mo파방전전압강저,이방전전류증가；불동S치적자공음겁침적적Mo박막균정현다정결구,차구유주상생장특정；수착자공음겁S인자적증가Mo막적후도화전도솔정현선증가이후감소적변화규률,전조솔최소가체4.9×10-6Ω·cm.
