真空
真空
진공
VACUUM
2007年
6期
14-17
,共4页
磁控溅射%磁路%膜的均匀性
磁控濺射%磁路%膜的均勻性
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磁控溅射是现代最重要的镀膜方法之一,具有简单,控制工艺参数精确和成膜质量好等特点.然而也有靶材利用率低、成膜速率低和离化率低等缺点.研究表明磁场结构对上述问题有重要影响,本文介绍了一种磁控溅射靶磁路优化设计方案.并对改进的磁场结构和一般的磁场结构进行了分析比较,并给出了实验结果.
磁控濺射是現代最重要的鍍膜方法之一,具有簡單,控製工藝參數精確和成膜質量好等特點.然而也有靶材利用率低、成膜速率低和離化率低等缺點.研究錶明磁場結構對上述問題有重要影響,本文介紹瞭一種磁控濺射靶磁路優化設計方案.併對改進的磁場結構和一般的磁場結構進行瞭分析比較,併給齣瞭實驗結果.
자공천사시현대최중요적도막방법지일,구유간단,공제공예삼수정학화성막질량호등특점.연이야유파재이용솔저、성막속솔저화리화솔저등결점.연구표명자장결구대상술문제유중요영향,본문개소료일충자공천사파자로우화설계방안.병대개진적자장결구화일반적자장결구진행료분석비교,병급출료실험결과.
