计算机应用与软件
計算機應用與軟件
계산궤응용여연건
COMPUTER APPLICATIONS AND SOFTWARE
2006年
10期
85-87
,共3页
磁控溅射%膜厚均匀性%计算机模拟
磁控濺射%膜厚均勻性%計算機模擬
자공천사%막후균균성%계산궤모의
由于薄膜厚度均匀性是影响薄膜性能的一个重要因素,根据平面磁控溅射的实际情况,提出了一个较为全面的磁控溅射薄膜厚度分布模型.该模型综合考虑靶面溅射电流分布、溅射产额与入射角之间的关系、靶面出射粒子的角分布、空间角以及粒子迁移过程中的碰撞等.对建立的模型进行了计算机模拟,并设计出了膜厚分布模拟软件.
由于薄膜厚度均勻性是影響薄膜性能的一箇重要因素,根據平麵磁控濺射的實際情況,提齣瞭一箇較為全麵的磁控濺射薄膜厚度分佈模型.該模型綜閤攷慮靶麵濺射電流分佈、濺射產額與入射角之間的關繫、靶麵齣射粒子的角分佈、空間角以及粒子遷移過程中的踫撞等.對建立的模型進行瞭計算機模擬,併設計齣瞭膜厚分佈模擬軟件.
유우박막후도균균성시영향박막성능적일개중요인소,근거평면자공천사적실제정황,제출료일개교위전면적자공천사박막후도분포모형.해모형종합고필파면천사전류분포、천사산액여입사각지간적관계、파면출사입자적각분포、공간각이급입자천이과정중적팽당등.대건립적모형진행료계산궤모의,병설계출료막후분포모의연건.
