影像科学与光化学
影像科學與光化學
영상과학여광화학
IMAGING SCIENCE AND PHOTOCHEMISTRY
2008年
2期
148-156
,共9页
纳米压印%抗蚀剂%成像
納米壓印%抗蝕劑%成像
납미압인%항식제%성상
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结.
納米壓印是最有希望的下一代納米成像技術之一.基于其機械壓印原理,納米壓印技術可以實現的圖形分辨率超越瞭在彆的傳統技術中由光衍射或粒子束散射造成的跼限.本文介紹納米壓印技術的基本原理,迴顧瞭近期納米壓印抗蝕劑的研究進展.對影響抗蝕劑性能的主要因素進行討論,包括玻璃化轉化溫度/熱穩定性、粘度/平均分子量、抗蝕性能等.分彆介紹瞭熱壓印和紫外壓印的常見抗蝕劑材料,這些抗蝕劑的主要部分包括聚甲基丙烯痠甲酯(PMMA)、有機硅改性的聚(甲基)丙烯痠酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化閤物、環氧樹脂等,併給齣這些抗蝕劑體繫的優、缺點.本文還介紹瞭納米壓印抗蝕劑麵臨的主要問題,對納米壓印技術的優勢和問題作瞭小結.
납미압인시최유희망적하일대납미성상기술지일.기우기궤계압인원리,납미압인기술가이실현적도형분변솔초월료재별적전통기술중유광연사혹입자속산사조성적국한.본문개소납미압인기술적기본원리,회고료근기납미압인항식제적연구진전.대영향항식제성능적주요인소진행토론,포괄파리화전화온도/열은정성、점도/평균분자량、항식성능등.분별개소료열압인화자외압인적상견항식제재료,저사항식제적주요부분포괄취갑기병희산갑지(PMMA)、유궤규개성적취(갑기)병희산지、취선알지、취이갑기규완、취을희기미화합물、배양수지등,병급출저사항식제체계적우、결점.본문환개소료납미압인항식제면림적주요문제,대납미압인기술적우세화문제작료소결.
