电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2011年
5期
35-38
,共4页
宾远红%刘英%李卫%郑洋
賓遠紅%劉英%李衛%鄭洋
빈원홍%류영%리위%정양
镁合金%微弧氧化%硅酸盐%耐蚀性
鎂閤金%微弧氧化%硅痠鹽%耐蝕性
미합금%미호양화%규산염%내식성
采用含硅酸钠14g/LK、氟化钠14g/L、氢氧化钠2g/L和甘油5 mL/L的电解液,以微弧氧化技术在ZE10镁合金的表面成功制备了微弧氧化膜.采用涡流测厚仪、扫描电镜、X射线衍射、电化学工作站等,研究了电压和时间对镁合金微弧氧化膜的厚度、表面形貌和耐蚀性的影响.结果表明,微弧氧化膜层主要由MgO、MgF2和Mg2SiO4及少量非晶态物质组成.随着电压的增大,膜层不断增厚.随着氧化时间的延长,膜厚迅速增加,20 min后膜层厚度基本稳定.微弧氧化膜的耐蚀性随着电压的增大和时间的延长均呈现先增强后降低的趋势.脉冲占空比和频率对膜层的耐蚀性也有一定的影响.
採用含硅痠鈉14g/LK、氟化鈉14g/L、氫氧化鈉2g/L和甘油5 mL/L的電解液,以微弧氧化技術在ZE10鎂閤金的錶麵成功製備瞭微弧氧化膜.採用渦流測厚儀、掃描電鏡、X射線衍射、電化學工作站等,研究瞭電壓和時間對鎂閤金微弧氧化膜的厚度、錶麵形貌和耐蝕性的影響.結果錶明,微弧氧化膜層主要由MgO、MgF2和Mg2SiO4及少量非晶態物質組成.隨著電壓的增大,膜層不斷增厚.隨著氧化時間的延長,膜厚迅速增加,20 min後膜層厚度基本穩定.微弧氧化膜的耐蝕性隨著電壓的增大和時間的延長均呈現先增彊後降低的趨勢.脈遲佔空比和頻率對膜層的耐蝕性也有一定的影響.
채용함규산납14g/LK、불화납14g/L、경양화납2g/L화감유5 mL/L적전해액,이미호양화기술재ZE10미합금적표면성공제비료미호양화막.채용와류측후의、소묘전경、X사선연사、전화학공작참등,연구료전압화시간대미합금미호양화막적후도、표면형모화내식성적영향.결과표명,미호양화막층주요유MgO、MgF2화Mg2SiO4급소량비정태물질조성.수착전압적증대,막층불단증후.수착양화시간적연장,막후신속증가,20 min후막층후도기본은정.미호양화막적내식성수착전압적증대화시간적연장균정현선증강후강저적추세.맥충점공비화빈솔대막층적내식성야유일정적영향.
