华中师范大学学报（自然科学版）
華中師範大學學報（自然科學版）
화중사범대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF CENTRAL CHINA NORMAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCES)
2008年
1期
54-57
,共4页
刘敏%崔增丽%黄致新%郭继花%张峰
劉敏%崔增麗%黃緻新%郭繼花%張峰
류민%최증려%황치신%곽계화%장봉
氮化铜薄膜%溅射功率%结构%性能
氮化銅薄膜%濺射功率%結構%性能
담화동박막%천사공솔%결구%성능
采用反应射频磁控溅射方法,在氮气和氧气混合气氛下并在玻璃基底上成功制备出了纳米氮化铜(Cu3N)薄膜,并研究了溅射功率对Cu3N薄膜的择优取向、平均品粒尺寸、电阻率、光学能隙的影响.XRD显示溅射功率对氮化铜薄膜的择优取向影响很大,在低功率时薄膜择优[111]方向,在较高功率时薄膜择优[100]方向.紫外可见光谱、四探针电阻仪等测试表明:当溅射功率从80 W逐渐增加到120 W时,薄膜的光学能隙从1.85 eV减小到1.41 eV,电阻率从1.45×102 Ωcm增加到2.99×103 Ωcm.
採用反應射頻磁控濺射方法,在氮氣和氧氣混閤氣氛下併在玻璃基底上成功製備齣瞭納米氮化銅(Cu3N)薄膜,併研究瞭濺射功率對Cu3N薄膜的擇優取嚮、平均品粒呎吋、電阻率、光學能隙的影響.XRD顯示濺射功率對氮化銅薄膜的擇優取嚮影響很大,在低功率時薄膜擇優[111]方嚮,在較高功率時薄膜擇優[100]方嚮.紫外可見光譜、四探針電阻儀等測試錶明:噹濺射功率從80 W逐漸增加到120 W時,薄膜的光學能隙從1.85 eV減小到1.41 eV,電阻率從1.45×102 Ωcm增加到2.99×103 Ωcm.
채용반응사빈자공천사방법,재담기화양기혼합기분하병재파리기저상성공제비출료납미담화동(Cu3N)박막,병연구료천사공솔대Cu3N박막적택우취향、평균품립척촌、전조솔、광학능극적영향.XRD현시천사공솔대담화동박막적택우취향영향흔대,재저공솔시박막택우[111]방향,재교고공솔시박막택우[100]방향.자외가견광보、사탐침전조의등측시표명:당천사공솔종80 W축점증가도120 W시,박막적광학능극종1.85 eV감소도1.41 eV,전조솔종1.45×102 Ωcm증가도2.99×103 Ωcm.
