微细加工技术
微細加工技術
미세가공기술
MICROFABRICATION TECHNOLOGY
2002年
3期
70-74
,共5页
场发射阵列(FEA)%氧化%溅射%离子注入
場髮射陣列(FEA)%氧化%濺射%離子註入
장발사진렬(FEA)%양화%천사%리자주입
场发射阵列(FEA)发射性能的下降是场发射显示(FED)研究中普遍遇到的一个问题,研究FEA发射性能下降的机制对于推进FED进展具有重要意义.阴极氧化、溅射损伤和离子注入是目前提出的三种解释.对这三种解释进行了进一步的分析和讨论,认为目前的实验工作还不足以充分说明哪种机制在FEA发射性能下降中占据主导地位,并提出了进一步的实验研究的方向和内容.
場髮射陣列(FEA)髮射性能的下降是場髮射顯示(FED)研究中普遍遇到的一箇問題,研究FEA髮射性能下降的機製對于推進FED進展具有重要意義.陰極氧化、濺射損傷和離子註入是目前提齣的三種解釋.對這三種解釋進行瞭進一步的分析和討論,認為目前的實驗工作還不足以充分說明哪種機製在FEA髮射性能下降中佔據主導地位,併提齣瞭進一步的實驗研究的方嚮和內容.
장발사진렬(FEA)발사성능적하강시장발사현시(FED)연구중보편우도적일개문제,연구FEA발사성능하강적궤제대우추진FED진전구유중요의의.음겁양화、천사손상화리자주입시목전제출적삼충해석.대저삼충해석진행료진일보적분석화토론,인위목전적실험공작환불족이충분설명나충궤제재FEA발사성능하강중점거주도지위,병제출료진일보적실험연구적방향화내용.
