离子辅助制备碳化硅改性薄膜
리자보조제비탄화규개성박막
Si modified coating on SiC substrate by ion beam assisted deposition
  • 万方数据
    光学精密工程 광학정밀공정
    OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
    2008年 3期 381-385 ,共5页

    陈红%高劲松%宋琦%王彤彤%申振峰%王笑夷%郑宣鸣%范镝

    진홍%고경송%송기%왕동동%신진봉%왕소이%정선명%범적

    反应烧结碳化硅%表面改性%离子辅助沉积%霍尔源%表面散射系数 反應燒結碳化硅%錶麵改性%離子輔助沉積%霍爾源%錶麵散射繫數
    반응소결탄화규%표면개성%리자보조침적%곽이원%표면산사계수
    介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果.对样品进行了表面散射及反射的测量.通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积速率增大的条件下结构趋于疏松.在精细抛光镀制有硅改性薄膜的反应烧结碳化硅样品后,表面散射系数减小到1.46%,反射率接近抛光良好的微晶玻璃.温度冲击实验和表面拉力实验表明:硅膜无龟裂和脱落,性质稳定,与碳化硅基底结合良好.
    개소료일충이용곽이형리자원보조전자속증발,재반응소결탄화규(RB-SiC)재료상제비규개성박막적방법,연구료불동침적속솔하박막개성후적포광효과.대양품진행료표면산사급반사적측량.통과양품적현미조편가지,규막층재침적속솔증대적조건하결구추우소송.재정세포광도제유규개성박막적반응소결탄화규양품후,표면산사계수감소도1.46%,반사솔접근포광량호적미정파리.온도충격실험화표면랍력실험표명:규막무구렬화탈락,성질은정,여탄화규기저결합량호.
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