强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2011年
4期
1101-1104
,共4页
刘曾怡%林祖伦%王小菊%曹贵川%祁康成
劉曾怡%林祖倫%王小菊%曹貴川%祁康成
류증이%림조륜%왕소국%조귀천%기강성
电子束蒸发%六硼化镧薄膜%蒸发角度%逸出功%大面积薄膜阴极
電子束蒸髮%六硼化鑭薄膜%蒸髮角度%逸齣功%大麵積薄膜陰極
전자속증발%륙붕화란박막%증발각도%일출공%대면적박막음겁
采用电子束蒸发方法在大面积玻璃基底和钽基底上沉积六硼化镧薄膜阴极.分别对玻璃基底上沉积的六硼化镧薄膜的生长取向、附着力与不同蒸发角度(0°,30°,45°和60°)的关系进行了研究;对钽基底上沉积的六硼化镧薄膜阴极的逸出功进行了研究.结果表明:在基底温度为250℃时,制备的六硼化镧薄膜具有(100)晶面择优生长的特点;蒸发角度为45°时,六硼化镧薄膜(100)晶面的晶格常数与靶材相差最小,晶粒较小;根据优化的工艺制备的六硼化镧薄膜阴极的逸出功为2.56 eV.
採用電子束蒸髮方法在大麵積玻璃基底和鐽基底上沉積六硼化鑭薄膜陰極.分彆對玻璃基底上沉積的六硼化鑭薄膜的生長取嚮、附著力與不同蒸髮角度(0°,30°,45°和60°)的關繫進行瞭研究;對鐽基底上沉積的六硼化鑭薄膜陰極的逸齣功進行瞭研究.結果錶明:在基底溫度為250℃時,製備的六硼化鑭薄膜具有(100)晶麵擇優生長的特點;蒸髮角度為45°時,六硼化鑭薄膜(100)晶麵的晶格常數與靶材相差最小,晶粒較小;根據優化的工藝製備的六硼化鑭薄膜陰極的逸齣功為2.56 eV.
채용전자속증발방법재대면적파리기저화단기저상침적륙붕화란박막음겁.분별대파리기저상침적적륙붕화란박막적생장취향、부착력여불동증발각도(0°,30°,45°화60°)적관계진행료연구;대단기저상침적적륙붕화란박막음겁적일출공진행료연구.결과표명:재기저온도위250℃시,제비적륙붕화란박막구유(100)정면택우생장적특점;증발각도위45°시,륙붕화란박막(100)정면적정격상수여파재상차최소,정립교소;근거우화적공예제비적륙붕화란박막음겁적일출공위2.56 eV.
