在不同退火温度下射频磁控溅射CNx膜的电子场发射性质
재불동퇴화온도하사빈자공천사CNx막적전자장발사성질
Electron Field Emission of RF Magnetron Sputtered CNx Films Annealed at Different Temperatures
  • 万方数据
    吉林大学学报（理学版） 길림대학학보（이학판）
    JOURNAL OF JILIN UNIVERSITY(SCIENCE EDITION)
    2005年 2期 182-184 ,共3页

    李哲奎%李俊杰%金曾孙%吕宪义%白晓明%郑冰%田宏伟%于狭升

    리철규%리준걸%금증손%려헌의%백효명%정빙%전굉위%우협승

    射频磁控溅射%CNx膜%退火温度%电子场发射 射頻磁控濺射%CNx膜%退火溫度%電子場髮射
    사빈자공천사%CNx막%퇴화온도%전자장발사
    对磁控溅射沉积得到的CNx膜在不同温度下进行真空退火, 退火前后CNx膜的化学键合采用X射线光电子能谱表征. 结果发现, 沉积的CNx膜中氮原子与sp, sp2, sp3杂化碳原子相键合, 并对经过退火的CNx膜的键合结构和电子场发射特性的影响进行了研究.
    대자공천사침적득도적CNx막재불동온도하진행진공퇴화, 퇴화전후CNx막적화학건합채용X사선광전자능보표정. 결과발현, 침적적CNx막중담원자여sp, sp2, sp3잡화탄원자상건합, 병대경과퇴화적CNx막적건합결구화전자장발사특성적영향진행료연구.
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