磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜
자공천사방법제비직경120 mm고균균성Mo/Si다층막
Fabrication of high uniformity Mo/Si multilayer with 120 mm diameter using magnetron sputtering
  • 万方数据
    强激光与粒子束 강격광여입자속
    HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
    2010年 7期 1535-1538 ,共4页

    潘磊%王晓强%张众%朱京涛%王占山%李乙洲%李宏杰%王道荣%赵巨岩%陆伟

    반뢰%왕효강%장음%주경도%왕점산%리을주%리굉걸%왕도영%조거암%륙위

    Mo/Si多层膜%磁控溅射%均匀性%反射率%同步辐射 Mo/Si多層膜%磁控濺射%均勻性%反射率%同步輻射
    Mo/Si다층막%자공천사%균균성%반사솔%동보복사
    为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜.通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性.采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%.同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%.
    위만족겁자외、연X사선화X사선대구경다층막반사경적수구,채용기판소략과구형파재표면적도막방법,재직경120 mm적평면기판상도제료Mo/Si주기다층막.통과조정기판소략과구형파재표면적속솔수정료박막적침적속솔,겁대지제고료박막후도적균균성.채용X사선연사의대반사경불동위치다층막주기후도진행료측량,결과표명,재직경120 mm범위내,Mo/Si다층막주기후도적균균성체도료0.26%.동보복사측량다층막양품불동위치처적반사솔,결과표명,재직경120 mm범위내,다층막적막층후도균균,재입사각10°시13.75 nm파장처평균반사솔위66.82%.
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