真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2012年
3期
214-218
,共5页
郑灼勇%于光龙%张志坚%陈景水%郭太良%张永爱
鄭灼勇%于光龍%張誌堅%陳景水%郭太良%張永愛
정작용%우광룡%장지견%진경수%곽태량%장영애
聚酰亚胺%场发射%复合薄膜%后栅型
聚酰亞胺%場髮射%複閤薄膜%後柵型
취선아알%장발사%복합박막%후책형
要使用射频磁控溅射和化学溶液法制备了SiO2/聚酰亚胺(PI)/SO绝缘膜.分别使用X射线衍射、扫描电镜对薄膜结构和薄膜表面形貌进行了表征;利用超高阻微电流测试仪测试了SiO2/PI/SiO2复合绝缘膜漏电流和电压击穿特性;采用SiO2/PI/SO作为绝缘膜,制作了后栅型场致发射器件,使用场发射测试系统测试了器件的开启电压、发射电流以及发光亮度.结果表明:SiO2/PI/SiO2复合绝缘膜具有高的击穿电压和低的漏电流密度,后栅器件中栅极对阴极表面的电场强度调控作用明显,阳极电压为750V时,栅极开启电压为91 V,阳极电流可达384μA,栅极漏电流仅为59μA,器件最高亮度可达600 cd/m2.
要使用射頻磁控濺射和化學溶液法製備瞭SiO2/聚酰亞胺(PI)/SO絕緣膜.分彆使用X射線衍射、掃描電鏡對薄膜結構和薄膜錶麵形貌進行瞭錶徵;利用超高阻微電流測試儀測試瞭SiO2/PI/SiO2複閤絕緣膜漏電流和電壓擊穿特性;採用SiO2/PI/SO作為絕緣膜,製作瞭後柵型場緻髮射器件,使用場髮射測試繫統測試瞭器件的開啟電壓、髮射電流以及髮光亮度.結果錶明:SiO2/PI/SiO2複閤絕緣膜具有高的擊穿電壓和低的漏電流密度,後柵器件中柵極對陰極錶麵的電場彊度調控作用明顯,暘極電壓為750V時,柵極開啟電壓為91 V,暘極電流可達384μA,柵極漏電流僅為59μA,器件最高亮度可達600 cd/m2.
요사용사빈자공천사화화학용액법제비료SiO2/취선아알(PI)/SO절연막.분별사용X사선연사、소묘전경대박막결구화박막표면형모진행료표정;이용초고조미전류측시의측시료SiO2/PI/SiO2복합절연막루전류화전압격천특성;채용SiO2/PI/SO작위절연막,제작료후책형장치발사기건,사용장발사측시계통측시료기건적개계전압、발사전류이급발광량도.결과표명:SiO2/PI/SiO2복합절연막구유고적격천전압화저적루전류밀도,후책기건중책겁대음겁표면적전장강도조공작용명현,양겁전압위750V시,책겁개계전압위91 V,양겁전류가체384μA,책겁루전류부위59μA,기건최고량도가체600 cd/m2.